SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND MANUFACTURING METHOD OF SINTERED BODY: Fid-Bau Portal

SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND MANUFACTURING METHOD OF SINTERED BODY

HIDESHIMA MASAAKI / TSUNODA KOJI

To provide a sintered body capable of suppressing generation of abnormal discharge by effectively reducing bulk resistance while providing appropriate mechanical strength, a sputtering target, and a manufacturing method of sintered body.SOLUTION: A sintered body of the present invention is the sintered body of oxide containing In, Ga and Zn, where the relations of 0.317

【課題】適切な機械的強度としつつ、バルク抵抗を有効に低減して、異常放電の発生を抑制することのできる焼結体、スパッタリングターゲットおよび、焼結体の製造方法を提供する。【解決手段】この発明の焼結体は、Ｉｎ、Ｇａ及びＺｎを含有する酸化物の焼結体であって、０．３１７＜Ｉｎ／（Ｉｎ＋Ｇａ＋Ｚｎ）≦０．３５０、０．３１７＜Ｇａ／（Ｉｎ＋Ｇａ＋Ｚｎ）≦０．３５０、および、０．３１７＜Ｚｎ／（Ｉｎ＋Ｇａ＋Ｚｎ）≦０．３５０の関係を満たし、バルク抵抗値が１５ｍΩｃｍ以上かつ２５ｍΩｃｍ以下であり、抗折強度が４０ＭＰａ以上かつ５０ＭＰａ未満である。【選択図】なし

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