Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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To provide a low reflection member having a surface that does not easily reflect light.SOLUTION: The low reflection member comprises a first face formed of ceramic at least on a part of the surface thereof. The prominent valley part depth Rvk of the first face obtained from a roughness curve is greater than the prominent peak part depth Rpk thereof obtained from the roughness curve. By satisfying the structure as described above, the incident light entering into the prominent valley parts of the first face is scattered, and thereby reflection light from the first face is not easily generated when light is radiated onto the first face.SELECTED DRAWING: None
【課題】光を反射しにくい面を有する低反射部材を提供する。【解決手段】本開示の低反射部材は、少なくとも一部の表面にセラミックスからなる第１面を備える。そして、この第１面は、粗さ曲線から求められる突出谷部深さＲｖｋが、粗さ曲線から求められる突出山部高さＲｐｋよりも大きい。このような構成を満足していることで、第１面に光を照射した際に、入射した光は第１面の突出した谷部に入り込み散乱するため、第１面からの反射光が生じにくい。【選択図】 なし
To provide a low reflection member having a surface that does not easily reflect light.SOLUTION: The low reflection member comprises a first face formed of ceramic at least on a part of the surface thereof. The prominent valley part depth Rvk of the first face obtained from a roughness curve is greater than the prominent peak part depth Rpk thereof obtained from the roughness curve. By satisfying the structure as described above, the incident light entering into the prominent valley parts of the first face is scattered, and thereby reflection light from the first face is not easily generated when light is radiated onto the first face.SELECTED DRAWING: None
【課題】光を反射しにくい面を有する低反射部材を提供する。【解決手段】本開示の低反射部材は、少なくとも一部の表面にセラミックスからなる第１面を備える。そして、この第１面は、粗さ曲線から求められる突出谷部深さＲｖｋが、粗さ曲線から求められる突出山部高さＲｐｋよりも大きい。このような構成を満足していることで、第１面に光を照射した際に、入射した光は第１面の突出した谷部に入り込み散乱するため、第１面からの反射光が生じにくい。【選択図】 なし
LOW REFLECTION MEMBER
低反射部材
HAYASHI SHINICHI (Autor:in)
13.08.2020
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
IPC:
C04B
Kalk
,
LIME
WAVE REFLECTION MEMBER AND METHOD OF CONSTRUCTING WAVE REFLECTION MEMBER
| Europäisches Patentamt | 2020