Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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SPUTTERING TARGET MEMBER, SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERING TARGET MEMBER, AND MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERED FILM
To provide a sputtering target member having a low specific resistance, and suitable for maintaining stable sputter discharge.SOLUTION: In a sputtering target member, containing MgO and Ti oxide, assuming that the total of Mg, Ti and O is 100 at%, each element satisfies following inequalities: 10≤Mg≤47 at%, 5≤Ti≤50 at%, 37≤O≤51 at%, and an X-ray diffraction profile obtained by analyzing a sputtered surface by an X-ray diffraction method has a diffraction peak derived from a Ti2O phase.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】低い比抵抗であって、安定したスパッタ放電を維持することに適しているスパッタリングターゲット部材を提供する。【解決手段】Ｍｇ、Ｔｉ及びＯの合計を１００ａｔ％とした場合に、各元素が１０≦Ｍｇ≦４７ａｔ％、５≦Ｔｉ≦５０ａｔ％、３７≦Ｏ≦５１ａｔ％を満たし、ＭｇＯとＴｉ酸化物を含有するスパッタリングターゲット部材であって、スパッタ面をＸ線回折法により分析することにより得たＸ線回折プロファイルが、Ｔｉ2Ｏ相を由来とする回折ピークを有する。【選択図】図１
SPUTTERING TARGET MEMBER, SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERING TARGET MEMBER, AND MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERED FILM
To provide a sputtering target member having a low specific resistance, and suitable for maintaining stable sputter discharge.SOLUTION: In a sputtering target member, containing MgO and Ti oxide, assuming that the total of Mg, Ti and O is 100 at%, each element satisfies following inequalities: 10≤Mg≤47 at%, 5≤Ti≤50 at%, 37≤O≤51 at%, and an X-ray diffraction profile obtained by analyzing a sputtered surface by an X-ray diffraction method has a diffraction peak derived from a Ti2O phase.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】低い比抵抗であって、安定したスパッタ放電を維持することに適しているスパッタリングターゲット部材を提供する。【解決手段】Ｍｇ、Ｔｉ及びＯの合計を１００ａｔ％とした場合に、各元素が１０≦Ｍｇ≦４７ａｔ％、５≦Ｔｉ≦５０ａｔ％、３７≦Ｏ≦５１ａｔ％を満たし、ＭｇＯとＴｉ酸化物を含有するスパッタリングターゲット部材であって、スパッタ面をＸ線回折法により分析することにより得たＸ線回折プロファイルが、Ｔｉ2Ｏ相を由来とする回折ピークを有する。【選択図】図１
SPUTTERING TARGET MEMBER, SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERING TARGET MEMBER, AND MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERED FILM
スパッタリングターゲット部材、スパッタリングターゲット、スパッタリングターゲット部材の製造方法、及びスパッタ膜の製造方法
SHIMOJUKU AKIRA (Autor:in) / SATO ATSUSHI (Autor:in)
08.10.2020
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
| Europäisches Patentamt | 2019
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Europäisches Patentamt | 2021
| Europäisches Patentamt | 2019
MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERING TARGET MEMBER, AND SPUTTERING TARGET MEMBER
| Europäisches Patentamt | 2020