Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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Electrostatic chuck dielectric layer and electrostatic chuck
플라즈마 가스에 대한 내식성이 뛰어난 존슨·라벡형 정전 척을 제공한다. 산화 알루미늄으로 이루어지는 제1상과 티탄을 포함하는 복합 탄질화물(Ti, Me)(C, N)을 미세한 입자로 제2상으로서 갖는 세라믹스 재료로 정전 척의 적어도 유전체층을 제작함으로써 해결하였다. Me는 전이 원소를 가리키며, 특히 유효한 것은 Mo, W 등의 4~6족 금속이다. 제2상이 0.05~2.5부피%를 차지한 세라믹스는 존슨·라벡형 정전 척에 필요한 10~10(Ω·cm) 정도의 부피 저항값을 가진다. 또한, 복합 탄질화물은 산화 알루미늄의 소결 과정에서의 입자 성장을 억제하는 효과가 높다. 그 때문에, 사용시에 입자의 탈락 크기도 작게 할 수 있고, 더욱이 플라즈마 내성에 의한 소모량도 저감할 수 있었다.
Electrostatic chuck dielectric layer and electrostatic chuck
플라즈마 가스에 대한 내식성이 뛰어난 존슨·라벡형 정전 척을 제공한다. 산화 알루미늄으로 이루어지는 제1상과 티탄을 포함하는 복합 탄질화물(Ti, Me)(C, N)을 미세한 입자로 제2상으로서 갖는 세라믹스 재료로 정전 척의 적어도 유전체층을 제작함으로써 해결하였다. Me는 전이 원소를 가리키며, 특히 유효한 것은 Mo, W 등의 4~6족 금속이다. 제2상이 0.05~2.5부피%를 차지한 세라믹스는 존슨·라벡형 정전 척에 필요한 10~10(Ω·cm) 정도의 부피 저항값을 가진다. 또한, 복합 탄질화물은 산화 알루미늄의 소결 과정에서의 입자 성장을 억제하는 효과가 높다. 그 때문에, 사용시에 입자의 탈락 크기도 작게 할 수 있고, 더욱이 플라즈마 내성에 의한 소모량도 저감할 수 있었다.
Electrostatic chuck dielectric layer and electrostatic chuck
정전 척 유전체층 및 정전 척
25.06.2020
Patent
Elektronische Ressource
Koreanisch
IPC:
C04B
Kalk
,
LIME
/
B23Q
DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING
,
Einzelheiten, Bestandteile oder Zubehör für Werkzeugmaschinen, z.B. Anordnungen zum Kopieren oder Steuern
/
H01L
Halbleiterbauelemente
,
SEMICONDUCTOR DEVICES
/
H02N
Elektrische Maschinen, soweit nicht anderweitig vorgesehen
,
ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
Dielectric layer for electrostatic chuck and electrostatic chuck
| Europäisches Patentamt | 2015
ELECTROSTATIC CHUCK DIELECTRIC LAYER AND ELECTROSTATIC CHUCK INCLUDING THE SAME
| Europäisches Patentamt | 2023
ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER AND ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE
| Europäisches Patentamt | 2023
ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER AND ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE
| Europäisches Patentamt | 2017