Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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Access floor structure for clean room of semiconductor manufacturing apparatus
개시되는 반도체 제조 장치의 클린룸용 액세스 플로어 구조가 배관 관통 액세스 플로어 패널과, 탭홀 형성 액세스 플로어 패널을 포함하고, 상기 배관 관통 액세스 플로어 패널의 주물 성형 과정에서 배관 관통홀이 함께 주물 성형되고, 상기 탭홀 형성 액세스 플로어 패널의 주물 성형 과정에서 탭홀 형성 패널 결합 탭홀이 함께 주물 성형됨에 따라, 반도체 제조 장치와 부가 설비를 연결하는 배관이 관통되기 위한 상기 배관 관통홀 형성을 위한 후 가공 작업이 요구되지 아니하면서도 상기 배관의 설치가 가능하고, 전선 케이블 등의 안정적인 설치가 가능한 장점이 있다.
Access floor structure for clean room of semiconductor manufacturing apparatus
개시되는 반도체 제조 장치의 클린룸용 액세스 플로어 구조가 배관 관통 액세스 플로어 패널과, 탭홀 형성 액세스 플로어 패널을 포함하고, 상기 배관 관통 액세스 플로어 패널의 주물 성형 과정에서 배관 관통홀이 함께 주물 성형되고, 상기 탭홀 형성 액세스 플로어 패널의 주물 성형 과정에서 탭홀 형성 패널 결합 탭홀이 함께 주물 성형됨에 따라, 반도체 제조 장치와 부가 설비를 연결하는 배관이 관통되기 위한 상기 배관 관통홀 형성을 위한 후 가공 작업이 요구되지 아니하면서도 상기 배관의 설치가 가능하고, 전선 케이블 등의 안정적인 설치가 가능한 장점이 있다.
Access floor structure for clean room of semiconductor manufacturing apparatus
반도체 제조 장치의 클린룸용 액세스 플로어 구조
14.06.2021
Patent
Elektronische Ressource
Koreanisch
Access floor structure for clean room of semiconductor manufacturing apparatus
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