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CYLINDRICAL CERAMIC SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
본 발명은, 원통형 기재, 원통형 세라믹스 타깃재, 및 상기 원통형 기재와 원통형 세라믹스 타깃재를 접합하는 솔더를 구비한 원통형 세라믹스 스퍼터링 타깃으로서, 상기 원통형 세라믹스 타깃재의 외표면에 있어서의, 당해 원통형 세라믹스 타깃재의 양단으로부터 내측 7㎜의 위치에 다이얼 게이지를 대고, 상기 원통형 기재의 외주면에 있어서의, 상기 원통형 세라믹스 타깃재의 양단으로부터 각각 외측 15㎜의 위치를 지점(支点)으로 해서 상기 원통형 세라믹스 스퍼터링 타깃을 1회전시켜 상기 다이얼 게이지의 눈금값을 측정했을 때에, 상기 다이얼 게이지의 눈금값의 최대값과 최소값과의 차가, 어느 측정 개소에 있어서도 1.0㎜ 이하인 원통형 세라믹스 스퍼터링 타깃 그리고 그 제조 장치 및 제조 방법이다. 본 발명의 원통형 세라믹스 스퍼터링 타깃은, 스퍼터링에 의해 라이프엔드까지 균질한 박막을 형성할 수 있다. 본 발명의 원통형 세라믹스 스퍼터링 타깃의 제조 장치 및 제조 방법은, 상기 원통형 세라믹스 스퍼터링 타깃을 호적(好適)하게 제조할 수 있다.
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본 발명은, 원통형 기재, 원통형 세라믹스 타깃재, 및 상기 원통형 기재와 원통형 세라믹스 타깃재를 접합하는 솔더를 구비한 원통형 세라믹스 스퍼터링 타깃으로서, 상기 원통형 세라믹스 타깃재의 외표면에 있어서의, 당해 원통형 세라믹스 타깃재의 양단으로부터 내측 7㎜의 위치에 다이얼 게이지를 대고, 상기 원통형 기재의 외주면에 있어서의, 상기 원통형 세라믹스 타깃재의 양단으로부터 각각 외측 15㎜의 위치를 지점(支点)으로 해서 상기 원통형 세라믹스 스퍼터링 타깃을 1회전시켜 상기 다이얼 게이지의 눈금값을 측정했을 때에, 상기 다이얼 게이지의 눈금값의 최대값과 최소값과의 차가, 어느 측정 개소에 있어서도 1.0㎜ 이하인 원통형 세라믹스 스퍼터링 타깃 그리고 그 제조 장치 및 제조 방법이다. 본 발명의 원통형 세라믹스 스퍼터링 타깃은, 스퍼터링에 의해 라이프엔드까지 균질한 박막을 형성할 수 있다. 본 발명의 원통형 세라믹스 스퍼터링 타깃의 제조 장치 및 제조 방법은, 상기 원통형 세라믹스 스퍼터링 타깃을 호적(好適)하게 제조할 수 있다.
CYLINDRICAL CERAMIC SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
원통형 세라믹스 스퍼터링 타깃 그리고 그 제조 장치 및 제조 방법
13.08.2021
Patent
Elektronische Ressource
Koreanisch
CYLINDRICAL CERAMIC SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
Europäisches Patentamt | 2016
|CYLINDRICAL CERAMIC SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
Europäisches Patentamt | 2017
|CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
Europäisches Patentamt | 2019
CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
Europäisches Patentamt | 2017
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Europäisches Patentamt | 2019
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