Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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SINTERED OXIDE BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING SAID SINTERED OXIDE BODY
인듐 (In), 갈륨 (Ga), 아연 (Zn), 산소 (O) 및 불가피적 불순물로 이루어지는 산화물 소결체로서, In, Ga 및 Zn 의 원자비로 In : Ga : Zn = 1 : 1 : 1 로 이루어지는 IGZO (111) 상과, IGZO (111) 상보다 Zn 을 많이 함유하는 IGZO 상을 구비하고, IGZO (111) 상보다 Zn 을 많이 함유하는 IGZO 상이 면적 비율로 1 ∼ 10 ％ 이고, 그 산화물 소결체의 In, Ga 및 Zn 의 원자수비가, In : Ga : Zn = 1 : 1 : (1.02 ∼ 1.10) 으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 산화물 소결체. 원하는 캐리어 농도를 갖는 막을 얻기 위해 필요한 스퍼터시의 산소 농도를 저감시키는 것이 가능한 IGZO 산화물 소결체를 제공하는 것을 과제로 한다.
SINTERED OXIDE BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING SAID SINTERED OXIDE BODY
인듐 (In), 갈륨 (Ga), 아연 (Zn), 산소 (O) 및 불가피적 불순물로 이루어지는 산화물 소결체로서, In, Ga 및 Zn 의 원자비로 In : Ga : Zn = 1 : 1 : 1 로 이루어지는 IGZO (111) 상과, IGZO (111) 상보다 Zn 을 많이 함유하는 IGZO 상을 구비하고, IGZO (111) 상보다 Zn 을 많이 함유하는 IGZO 상이 면적 비율로 1 ∼ 10 ％ 이고, 그 산화물 소결체의 In, Ga 및 Zn 의 원자수비가, In : Ga : Zn = 1 : 1 : (1.02 ∼ 1.10) 으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 산화물 소결체. 원하는 캐리어 농도를 갖는 막을 얻기 위해 필요한 스퍼터시의 산소 농도를 저감시키는 것이 가능한 IGZO 산화물 소결체를 제공하는 것을 과제로 한다.
SINTERED OXIDE BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING SAID SINTERED OXIDE BODY
산화물 소결체 및 그 산화물 소결체로 이루어지는 스퍼터링 타깃
KAKUTA KOJI (Autor:in) / OSADA KOZO (Autor:in)
09.11.2015
Patent
Elektronische Ressource
Koreanisch
SINTERED OXIDE BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING SAID SINTERED OXIDE BODY
Europäisches Patentamt | 2016
Sintered oxide body and sputtering target comprising said sintered oxide body
| Europäisches Patentamt | 2015
SINTERED OXIDE BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING SAID SINTERED OXIDE BODY
| Europäisches Patentamt | 2015
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING OXIDE SINTERED BODY
| Europäisches Patentamt | 2017
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING OXIDE SINTERED BODY
| Europäisches Patentamt | 2016