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기재와, 상기 기재의 표면에 에어로졸 데포지션법에 의해 형성된 이트리아 다결정체를 포함하는 내플라즈마성을 갖는 층상 구조물을 구비하고, 상기 층상 구조물을 구성하는 이트리아 다결정체는 입방정과 단사정이 혼재한 결정 구조를 갖고, 상기 층상 구조물을 구성하는 이트리아 다결정체 중에 있어서의 입방정에 대한 단사정의 비율은 0% 이상 60% 이하이고, 상기 층상 구조물을 구성하는 이트리아 다결정체의 결정자 사이즈는 8nm 이상 50nm 이하인 것을 특징으로 하는 내플라즈마성 부재가 제공된다.
기재와, 상기 기재의 표면에 에어로졸 데포지션법에 의해 형성된 이트리아 다결정체를 포함하는 내플라즈마성을 갖는 층상 구조물을 구비하고, 상기 층상 구조물을 구성하는 이트리아 다결정체는 입방정과 단사정이 혼재한 결정 구조를 갖고, 상기 층상 구조물을 구성하는 이트리아 다결정체 중에 있어서의 입방정에 대한 단사정의 비율은 0% 이상 60% 이하이고, 상기 층상 구조물을 구성하는 이트리아 다결정체의 결정자 사이즈는 8nm 이상 50nm 이하인 것을 특징으로 하는 내플라즈마성 부재가 제공된다.
PLASMA-RESISTANT MEMBER
내플라즈마성 부재
IWASAWA JUNICHI (Autor:in)
23.12.2016
Patent
Elektronische Ressource
Koreanisch