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Baking apparatus and Baking method of Cylindrical Sputtering Target Material
본 발명은 액정 표시 소자나 태양 전지 등에 사용되는 투명 도전막을 스퍼터링법으로 제작하는 경우에 사용되는 장척물의 원통형 스퍼터링 타겟을 제조하는 소성 장치를 제공한다. 장척물의 원통형 스퍼터링 타겟재의 피소성체를 세운 상태로 탑재하는 고정로 바닥과, 고정로 바닥을 중심으로 배치되고 소성로 내벽면에 복수단의 가열 히터와 산소 유입구를 설치한 소성로 본체와, 소성로 본체를 주행 대차상에 탑재하고 있고 소성로 본체가 소성 위치와 대피 위치 사이의 궤조 주행을 가능하게 하고 또 소성로 하부와 고정로 바닥 사이에 로 밀봉을 개폐하는 기구를 설치한 것을 특징으로 한다.
Baking apparatus and Baking method of Cylindrical Sputtering Target Material
본 발명은 액정 표시 소자나 태양 전지 등에 사용되는 투명 도전막을 스퍼터링법으로 제작하는 경우에 사용되는 장척물의 원통형 스퍼터링 타겟을 제조하는 소성 장치를 제공한다. 장척물의 원통형 스퍼터링 타겟재의 피소성체를 세운 상태로 탑재하는 고정로 바닥과, 고정로 바닥을 중심으로 배치되고 소성로 내벽면에 복수단의 가열 히터와 산소 유입구를 설치한 소성로 본체와, 소성로 본체를 주행 대차상에 탑재하고 있고 소성로 본체가 소성 위치와 대피 위치 사이의 궤조 주행을 가능하게 하고 또 소성로 하부와 고정로 바닥 사이에 로 밀봉을 개폐하는 기구를 설치한 것을 특징으로 한다.
Baking apparatus and Baking method of Cylindrical Sputtering Target Material
원통형 스퍼터링 타겟재의 소성 장치 및 소성 방법
KUBOTA YOSHIAKI (Autor:in) / MORIOKA TOSHIHIRO (Autor:in)
18.12.2017
Patent
Elektronische Ressource
Koreanisch
IPC:
F27B
Industrieöfen, Schachtöfen, Brennöfen, Retorten allgemein
,
FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL
/
C04B
Kalk
,
LIME
/
C23C
Beschichten metallischer Werkstoffe
,
COATING METALLIC MATERIAL
/
F27D
Einzelheiten oder Zubehör für Industrieöfen, Schachtöfen, Brennöfen oder Retorten, soweit sie nicht auf eine Ofenart eingeschränkt sind
,
DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
Baking apparatus and Baking method of Cylindrical Sputtering Target Material
Europäisches Patentamt | 2018
CYLINDRICAL TARGET MATERIAL MANUFACTURING METHOD, CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET, AND BAKING JIG
Europäisches Patentamt | 2016
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