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CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
The objective of the present invention is to provide a cylindrical sintered body having a length in a cylinder axis direction of 470 mm or more, a cylindrical sputtering target, and a manufacturing method thereof. According to an embodiment of the present invention, the manufacturing method of a cylindrical sputtering target having a cylindrical sintered body, comprises the steps of: placing a cylindrical molded body having a length in a cylinder axis direction of 600 mm or more on a stage having an oxygen supply port connected to a pipe for supplying oxygen; and performing sintering while supplying oxygen from an oxygen supply port, which is provided inside a cylinder of the cylindrical molded body and is smaller than the inner circumference of the cylinder, in the cylinder axis direction. In addition, according to another embodiment of the present invention, the stage is disposed in a chamber, and the pipe for supplying oxygen can be connected to the oxygen supply port from the outside of the chamber.
원통축 방향의 길이가 470 mm 이상인 원통형 소결체, 원통형 스퍼터링 타겟 및 그러한 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 일 실시 형태에 의한 원통형 스퍼터링 타겟의 제조 방법은, 원통형 소결체를 가지는 원통형 스퍼터링 타겟의 제조 방법에 있어서, 산소를 공급하기 위한 배관과 접속하는 산소 공급구를 마련한 스테이지 상에 원통축 방향의 길이가 600 mm 이상인 원통형 성형체를 배치하고, 원통형 성형체의 원통 내측에 마련된 원통 내주보다 작은 산소 공급구로부터 원통축 방향으로 산소를 공급하면서 소결한다. 또한, 다른 형태에 있어서, 스테이지는 챔버 안에 배치되고, 산소를 공급하기 위한 배관은 챔버의 밖으로부터 산소 공급구에 접속될 수도 있다.
CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
The objective of the present invention is to provide a cylindrical sintered body having a length in a cylinder axis direction of 470 mm or more, a cylindrical sputtering target, and a manufacturing method thereof. According to an embodiment of the present invention, the manufacturing method of a cylindrical sputtering target having a cylindrical sintered body, comprises the steps of: placing a cylindrical molded body having a length in a cylinder axis direction of 600 mm or more on a stage having an oxygen supply port connected to a pipe for supplying oxygen; and performing sintering while supplying oxygen from an oxygen supply port, which is provided inside a cylinder of the cylindrical molded body and is smaller than the inner circumference of the cylinder, in the cylinder axis direction. In addition, according to another embodiment of the present invention, the stage is disposed in a chamber, and the pipe for supplying oxygen can be connected to the oxygen supply port from the outside of the chamber.
원통축 방향의 길이가 470 mm 이상인 원통형 소결체, 원통형 스퍼터링 타겟 및 그러한 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 일 실시 형태에 의한 원통형 스퍼터링 타겟의 제조 방법은, 원통형 소결체를 가지는 원통형 스퍼터링 타겟의 제조 방법에 있어서, 산소를 공급하기 위한 배관과 접속하는 산소 공급구를 마련한 스테이지 상에 원통축 방향의 길이가 600 mm 이상인 원통형 성형체를 배치하고, 원통형 성형체의 원통 내측에 마련된 원통 내주보다 작은 산소 공급구로부터 원통축 방향으로 산소를 공급하면서 소결한다. 또한, 다른 형태에 있어서, 스테이지는 챔버 안에 배치되고, 산소를 공급하기 위한 배관은 챔버의 밖으로부터 산소 공급구에 접속될 수도 있다.
CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
원통형 스퍼터링 타겟 및 그 제조 방법
TATENO SATORU (Autor:in) / OSADA KOZO (Autor:in)
23.05.2018
Patent
Elektronische Ressource
Koreanisch
CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
Europäisches Patentamt | 2019
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