Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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METHOD FOR MANUFACTURING TARGET MATERIAL FOR CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
The method for manufacturing a target material for a cylindrical sputtering target according to an embodiment comprises an outer circumferential surface grinding step, an inner circumferential surface grinding step, and a finish-grinding step. In the outer circumferential surface grinding step, the outer circumferential surface of a ceramic sputtering target material is ground. In the inner circumferential surface grinding step, the inner circumferential surface of the sputtering target material is ground. In the finish-grinding step, in the outer circumferential grinding step and/or the inner circumferential grinding step, the sputtering target material is ground in two or more grinding directions.
Dans un mode de réalisation, la présente invention concerne un procédé de fabrication d'un matériau cible pour une cible de pulvérisation cathodique cylindrique, le procédé comprenant une étape de meulage d'une surface circonférentielle extérieure, une étape de meulage de surface circonférentielle intérieure et une étape de meulage de finition. Lors de l'étape de meulage de surface circonférentielle extérieure, la surface circonférentielle extérieure d'un matériau cible de pulvérisation cathodique en céramique est meulée. Lors de l'étape de meulage de surface circonférentielle intérieure, la surface circonférentielle intérieure du matériau cible de pulvérisation cathodique est meulée. Lors de l'étape de meulage de finition, de l'étape de meulage circonférentiel extérieur et/ou de meulage circonférentiel intérieur, le matériau de cible de pulvérisation cathodique est meulé selon deux directions de meulage ou plus.
実施形態に係る円筒形スパッタリングターゲット用ターゲット材の製造方法は、外周面研削工程と、内周面研削工程と、仕上研削工程と、を含む。外周面研削工程では、セラミックス製のスパッタリングターゲット材の外周面を研削する。内周面研削工程では、スパッタリングターゲット材の内周面を研削する。仕上研削工程では、外周面研削工程および内周面研削工程の少なくとも一方において、２以上の研削方向で研削する。
METHOD FOR MANUFACTURING TARGET MATERIAL FOR CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
The method for manufacturing a target material for a cylindrical sputtering target according to an embodiment comprises an outer circumferential surface grinding step, an inner circumferential surface grinding step, and a finish-grinding step. In the outer circumferential surface grinding step, the outer circumferential surface of a ceramic sputtering target material is ground. In the inner circumferential surface grinding step, the inner circumferential surface of the sputtering target material is ground. In the finish-grinding step, in the outer circumferential grinding step and/or the inner circumferential grinding step, the sputtering target material is ground in two or more grinding directions.
Dans un mode de réalisation, la présente invention concerne un procédé de fabrication d'un matériau cible pour une cible de pulvérisation cathodique cylindrique, le procédé comprenant une étape de meulage d'une surface circonférentielle extérieure, une étape de meulage de surface circonférentielle intérieure et une étape de meulage de finition. Lors de l'étape de meulage de surface circonférentielle extérieure, la surface circonférentielle extérieure d'un matériau cible de pulvérisation cathodique en céramique est meulée. Lors de l'étape de meulage de surface circonférentielle intérieure, la surface circonférentielle intérieure du matériau cible de pulvérisation cathodique est meulée. Lors de l'étape de meulage de finition, de l'étape de meulage circonférentiel extérieur et/ou de meulage circonférentiel intérieur, le matériau de cible de pulvérisation cathodique est meulé selon deux directions de meulage ou plus.
実施形態に係る円筒形スパッタリングターゲット用ターゲット材の製造方法は、外周面研削工程と、内周面研削工程と、仕上研削工程と、を含む。外周面研削工程では、セラミックス製のスパッタリングターゲット材の外周面を研削する。内周面研削工程では、スパッタリングターゲット材の内周面を研削する。仕上研削工程では、外周面研削工程および内周面研削工程の少なくとも一方において、２以上の研削方向で研削する。
METHOD FOR MANUFACTURING TARGET MATERIAL FOR CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MATÉRIAU CIBLE POUR CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE CYLINDRIQUE, ET CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE CYLINDRIQUE
円筒形スパッタリングターゲット用ターゲット材の製造方法および円筒形スパッタリングターゲット
ISHIDA SHINTARO (Autor:in)
25.02.2016
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
Europäisches Patentamt | 2019
CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
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