Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET CYLINDRICAL COMPACT MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SINTERED COMPACT AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL COMPACT
The present invention aims to provide a cylindrical sputtering target, a cylindrical sintered body, and a cylindrical molded body with small deformation and high strength, and a manufacturing method thereof, or the present invention aims to provide a cylindrical sputtering target, a cylindrical sintered body, and a cylindrical molded body with high homogeneity, and a manufacturing method thereof. The sputtering target according to one embodiment of the present invention has a cylindrical sintered body whose relative density ranges from 99.7% or more to 99.9% or less. In addition, the cylindrical sputtering target has a plurality of cylindrical sintered bodies which are adjacent to each other by introducing a regular space, and a relative density difference between the plurality of adjacent cylindrical sintered bodies is 0.1% or less.
본 발명은, 변형이 적고 강도가 높은 원통형 스퍼터링 타겟, 원통형 소결체, 원통형 성형체 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또는, 균질성이 높은 원통형 스퍼터링 타겟, 원통형 소결체, 원통형 성형체 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 일 실시 형태에 의한 스퍼터링 타겟은, 원통형 소결체를 갖고, 원통형 소결체의 상대 밀도는 99.7% 이상 99.9% 이하이다. 또한, 원통형 스퍼터링 타겟은, 일정한 스페이스를 개입시켜 인접하는 복수의 원통형 소결체를 갖고, 인접하는 복수의 원통형 소결체 간의 상대 밀도의 차이는 0.1% 이하일 수 있다.
CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET CYLINDRICAL COMPACT MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SINTERED COMPACT AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL COMPACT
The present invention aims to provide a cylindrical sputtering target, a cylindrical sintered body, and a cylindrical molded body with small deformation and high strength, and a manufacturing method thereof, or the present invention aims to provide a cylindrical sputtering target, a cylindrical sintered body, and a cylindrical molded body with high homogeneity, and a manufacturing method thereof. The sputtering target according to one embodiment of the present invention has a cylindrical sintered body whose relative density ranges from 99.7% or more to 99.9% or less. In addition, the cylindrical sputtering target has a plurality of cylindrical sintered bodies which are adjacent to each other by introducing a regular space, and a relative density difference between the plurality of adjacent cylindrical sintered bodies is 0.1% or less.
본 발명은, 변형이 적고 강도가 높은 원통형 스퍼터링 타겟, 원통형 소결체, 원통형 성형체 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또는, 균질성이 높은 원통형 스퍼터링 타겟, 원통형 소결체, 원통형 성형체 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 일 실시 형태에 의한 스퍼터링 타겟은, 원통형 소결체를 갖고, 원통형 소결체의 상대 밀도는 99.7% 이상 99.9% 이하이다. 또한, 원통형 스퍼터링 타겟은, 일정한 스페이스를 개입시켜 인접하는 복수의 원통형 소결체를 갖고, 인접하는 복수의 원통형 소결체 간의 상대 밀도의 차이는 0.1% 이하일 수 있다.
CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET CYLINDRICAL COMPACT MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SINTERED COMPACT AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL COMPACT
원통형 스퍼터링 타겟, 원통형 성형체, 및 원통형 스퍼터링 타겟, 원통형 소결체, 및 원통형 성형체의 제조 방법
YAMAGUCHI YOHEI (Autor:in)
15.12.2021
Patent
Elektronische Ressource
Koreanisch
| Europäisches Patentamt | 2016
| Europäisches Patentamt | 2017