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소결용 질화규소 분말
미분이면서, 경시적인 산소 농도의 증가량이 극히 작고, 보존 안정성이 우수한 소결용 질화규소 분말을 제공한다. 비표면적이 5 내지 30㎡/g인 질화규소 분말로서, 소수화도(M값)가 30 이상, 습도 90％, 20℃의 공기 중에 48시간 방치한 후에 있어서의 산소 농도의 증가량이 0.3질량％ 이하인 것을 특징으로 하는 소결용 질화규소 분말이고, 질화규소의 응집괴를, 불활성 분위기 하에서, 실란 커플링제의 존재 하에 건식 분쇄함으로써 얻을 수 있다.
A silicon nitride powder for sintering which, despite of its fine powdery form, shows a very small increase in the oxygen concentration with time and features excellent storage stability. The silicon nitride powder for sintering has a specific surface area of 5 to 30 m2/g, and is characterized by having a hydrophobicity (M value) of 30 or more and an increase in the oxygen concentration of 0.30% by mass or less after left to stand in the air of a humidity of 90% and 20 °C for 48 hours. The silicon nitride powder for sintering can be obtained by dry-pulverizing aggregated masses of the silicon nitride in an inert atmosphere in the presence of a silane coupling agent.
소결용 질화규소 분말
미분이면서, 경시적인 산소 농도의 증가량이 극히 작고, 보존 안정성이 우수한 소결용 질화규소 분말을 제공한다. 비표면적이 5 내지 30㎡/g인 질화규소 분말로서, 소수화도(M값)가 30 이상, 습도 90％, 20℃의 공기 중에 48시간 방치한 후에 있어서의 산소 농도의 증가량이 0.3질량％ 이하인 것을 특징으로 하는 소결용 질화규소 분말이고, 질화규소의 응집괴를, 불활성 분위기 하에서, 실란 커플링제의 존재 하에 건식 분쇄함으로써 얻을 수 있다.
A silicon nitride powder for sintering which, despite of its fine powdery form, shows a very small increase in the oxygen concentration with time and features excellent storage stability. The silicon nitride powder for sintering has a specific surface area of 5 to 30 m2/g, and is characterized by having a hydrophobicity (M value) of 30 or more and an increase in the oxygen concentration of 0.30% by mass or less after left to stand in the air of a humidity of 90% and 20 °C for 48 hours. The silicon nitride powder for sintering can be obtained by dry-pulverizing aggregated masses of the silicon nitride in an inert atmosphere in the presence of a silane coupling agent.
소결용 질화규소 분말
KAWAI HIDEAKI (Autor:in) / WAKAMATSU SATORU (Autor:in)
19.12.2022
Patent
Elektronische Ressource
Koreanisch