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SUBSTRATE INCLUDING A DIAMOND LAYER AND A COMPOSITE LAYER OF DIAMOND AND SILICON CARBIDE, AND, OPTIONALLY, SILICON
A multilayer substrate includes a diamond layer CVD grown on a composite layer. The composite layer includes particles of diamond and silicon carbide and, optionally, silicon. A loading level (by volume) of diamond in the composite layer can be ≥ 5 %; ≥ 20 %; ≥ 40 %; or ≥ 60 %. The multilayer substrate can be used as an optical device; a detector for detecting radiation particles or electromagnetic waves; a device for cutting, drilling, machining, milling, lapping, polishing, coating, bonding, or brazing; a braking device; a seal; a heat conductor; an electromagnetic wave conductor; a chemically inert device for use in a corrosive environment, a strong oxidizing environment, or a strong reducing environment, at an elevated temperature, or under a cryogenic condition; or a device for polishing or planarization of other devices, wafers or films.
La présente invention concerne un substrat multicouche comportant une couche de diamant obtenue par croissance par dépôt chimique en phase vapeur sur une couche composite. La couche composite comporte des particules de diamant et de carbure de silicium et, éventuellement, du silicium. Un niveau de chargement (en volume) de diamant dans la couche composite peut être ≥ 5 %; ≥ 20 %; ≥ 40 %; ou ≥ 60 %. Le substrat multicouche peut être utilisé sous la forme d'un dispositif optique; d'un détecteur pour détecter des particules de rayonnement ou des ondes électromagnétiques; d'un dispositif de coupe, de forage, d'usinage, de broyage, de rodage, de polissage, de revêtement, de collage, ou de brasage; d'un dispositif de freinage; d'un joint d'étanchéité; d'un conducteur de chaleur; d'un conducteur d'ondes électromagnétiques; d'un dispositif chimiquement inerte destiné à être utilisé dans un environnement corrosif, un environnement oxydant fort, ou un environnement de forte réduction, à une température élevée, ou dans un état cryogénique; ou d'un dispositif de polissage ou de planarisation d'autres dispositifs, de tranches ou de films.
SUBSTRATE INCLUDING A DIAMOND LAYER AND A COMPOSITE LAYER OF DIAMOND AND SILICON CARBIDE, AND, OPTIONALLY, SILICON
A multilayer substrate includes a diamond layer CVD grown on a composite layer. The composite layer includes particles of diamond and silicon carbide and, optionally, silicon. A loading level (by volume) of diamond in the composite layer can be ≥ 5 %; ≥ 20 %; ≥ 40 %; or ≥ 60 %. The multilayer substrate can be used as an optical device; a detector for detecting radiation particles or electromagnetic waves; a device for cutting, drilling, machining, milling, lapping, polishing, coating, bonding, or brazing; a braking device; a seal; a heat conductor; an electromagnetic wave conductor; a chemically inert device for use in a corrosive environment, a strong oxidizing environment, or a strong reducing environment, at an elevated temperature, or under a cryogenic condition; or a device for polishing or planarization of other devices, wafers or films.
La présente invention concerne un substrat multicouche comportant une couche de diamant obtenue par croissance par dépôt chimique en phase vapeur sur une couche composite. La couche composite comporte des particules de diamant et de carbure de silicium et, éventuellement, du silicium. Un niveau de chargement (en volume) de diamant dans la couche composite peut être ≥ 5 %; ≥ 20 %; ≥ 40 %; ou ≥ 60 %. Le substrat multicouche peut être utilisé sous la forme d'un dispositif optique; d'un détecteur pour détecter des particules de rayonnement ou des ondes électromagnétiques; d'un dispositif de coupe, de forage, d'usinage, de broyage, de rodage, de polissage, de revêtement, de collage, ou de brasage; d'un dispositif de freinage; d'un joint d'étanchéité; d'un conducteur de chaleur; d'un conducteur d'ondes électromagnétiques; d'un dispositif chimiquement inerte destiné à être utilisé dans un environnement corrosif, un environnement oxydant fort, ou un environnement de forte réduction, à une température élevée, ou dans un état cryogénique; ou d'un dispositif de polissage ou de planarisation d'autres dispositifs, de tranches ou de films.
SUBSTRATE INCLUDING A DIAMOND LAYER AND A COMPOSITE LAYER OF DIAMOND AND SILICON CARBIDE, AND, OPTIONALLY, SILICON
SUBSTRAT COMPORTANT UNE COUCHE DE DIAMANT ET UNE COUCHE COMPOSITE DE DIAMANT ET DE CARBURE DE SILICIUM, ET, EVENTUELLEMENT, DU SILICIUM
XU WEN-QING (Autor:in) / EISSLER ELGIN E (Autor:in) / LIU CHAO (Autor:in) / TANNER CHARLES D (Autor:in) / KRAISINGER CHARLES J (Autor:in) / AGHAJANIAN MICHAEL (Autor:in)
05.11.2015
Patent
Elektronische Ressource
Englisch
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