Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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OXIDE SPUTTERED FILM, METHOD FOR MANUFACTURING OXIDE SPUTTERED FILM, OXIDE SINTERED COMPACT, AND TRANSPARENT RESIN SUBSTRATE
The purpose of the present invention is to provide an oxide sputtered film having excellent transparency and good water vapor barrier performance and oxygen barrier performance in high-mass-productivity direct-current sputtering, a method for manufacturing an oxide sputtered film, an oxide sintered compact, and a transparent resin substrate. An oxide sputtered film which contains Zn and Sn, is amorphous and transparent, and has water vapor barrier performance or oxygen barrier performance, the oxide sputtered film being characterized in that the ratio Sn/(Zn + Sn) of the number of metal atoms of Zn and Sn therein is 0.18 to 0.29.
La présente invention a pour objet un film formé par pulvérisation cathodique d'oxydes ayant une excellente transparence, de bonnes performances de barrière à la vapeur d'eau et d'excellentes performances de barrière à l'oxygène, par pulvérisation cathodique en courant continu à productivité de masse élevée, un procédé pour la fabrication d'un film formé par pulvérisation cathodique d'oxydes, un comprimé fritté d'oxydes et un substrat en résine transparente. À cet effet l'invention porte sur film formé par pulvérisation cathodique d'oxydes qui contient du Zn et du Sn, qui est amorphe et transparent et qui a des performances de barrière à la vapeur d'eau ou des performances de barrière à l'oxygène, le film formé par pulvérisation cathodique d'oxydes étant caractérisé en ce que le rapport Sn/(Zn + Sn) en termes de nombre d'atomes métalliques de Zn et de Sn présents dans celui-ci est de 0,18 à 0,29.
量産性の高い直流スパッタリングにて、優れた透明性、良好な水蒸気バリア性能、酸素バリア性能を有する、酸化物スパッタ膜、酸化物スパッタ膜の製造方法、酸化物焼結体及び透明樹脂基板を提供することを目的とする。 ＺｎとＳｎとを含有する非晶質の透明な水蒸気バリア性能もしくは酸素バリア性能を有する酸化物スパッタ膜であって、前記ＺｎとＳｎの金属原子数比のＳｎ／（Ｚｎ＋Ｓｎ）が０．１８以上０．２９以下であることを特徴とする。
OXIDE SPUTTERED FILM, METHOD FOR MANUFACTURING OXIDE SPUTTERED FILM, OXIDE SINTERED COMPACT, AND TRANSPARENT RESIN SUBSTRATE
The purpose of the present invention is to provide an oxide sputtered film having excellent transparency and good water vapor barrier performance and oxygen barrier performance in high-mass-productivity direct-current sputtering, a method for manufacturing an oxide sputtered film, an oxide sintered compact, and a transparent resin substrate. An oxide sputtered film which contains Zn and Sn, is amorphous and transparent, and has water vapor barrier performance or oxygen barrier performance, the oxide sputtered film being characterized in that the ratio Sn/(Zn + Sn) of the number of metal atoms of Zn and Sn therein is 0.18 to 0.29.
La présente invention a pour objet un film formé par pulvérisation cathodique d'oxydes ayant une excellente transparence, de bonnes performances de barrière à la vapeur d'eau et d'excellentes performances de barrière à l'oxygène, par pulvérisation cathodique en courant continu à productivité de masse élevée, un procédé pour la fabrication d'un film formé par pulvérisation cathodique d'oxydes, un comprimé fritté d'oxydes et un substrat en résine transparente. À cet effet l'invention porte sur film formé par pulvérisation cathodique d'oxydes qui contient du Zn et du Sn, qui est amorphe et transparent et qui a des performances de barrière à la vapeur d'eau ou des performances de barrière à l'oxygène, le film formé par pulvérisation cathodique d'oxydes étant caractérisé en ce que le rapport Sn/(Zn + Sn) en termes de nombre d'atomes métalliques de Zn et de Sn présents dans celui-ci est de 0,18 à 0,29.
量産性の高い直流スパッタリングにて、優れた透明性、良好な水蒸気バリア性能、酸素バリア性能を有する、酸化物スパッタ膜、酸化物スパッタ膜の製造方法、酸化物焼結体及び透明樹脂基板を提供することを目的とする。 ＺｎとＳｎとを含有する非晶質の透明な水蒸気バリア性能もしくは酸素バリア性能を有する酸化物スパッタ膜であって、前記ＺｎとＳｎの金属原子数比のＳｎ／（Ｚｎ＋Ｓｎ）が０．１８以上０．２９以下であることを特徴とする。
OXIDE SPUTTERED FILM, METHOD FOR MANUFACTURING OXIDE SPUTTERED FILM, OXIDE SINTERED COMPACT, AND TRANSPARENT RESIN SUBSTRATE
FILM FORMÉ PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE D'OXYDES, PROCÉDÉ POUR LA FABRICATION D'UN FILM FORMÉ PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE D'OXYDES, COMPRIMÉ FRITTÉ D'OXYDES ET SUBSTRAT EN RÉSINE TRANSPARENTE
酸化物スパッタ膜、酸化物スパッタ膜の製造方法、酸化物焼結体及び透明樹脂基板
KUWAHARA MASAKAZU (Autor:in) / NITO SHIGEO (Autor:in)
08.08.2019
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
| Europäisches Patentamt | 2020
| Europäisches Patentamt | 2019
| Europäisches Patentamt | 2020
| Europäisches Patentamt | 2019
OXIDE SINTERED COMPACT AND OXIDE TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM
| Europäisches Patentamt | 2015