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METHOD FOR MANUFACTURING QUARTZ MEMBER, METHOD FOR FORMING SILICA COATING, AND METHOD FOR SMOOTHING SURFACE OF MEMBER MADE FROM QUARTZ
A method for forming a silica coating by using a burner 4 to perform thermal spraying of silica onto an outer circumferential surface of a member 1 made from quartz, said method for forming a silica coating being characterized in that a thermally conductive material 5 with a thermal conductivity of 30 W/m∙K or greater at 25°C is fitted into an inner hole of the member 1 made from quartz, and thermal spraying is performed while an inner circumferential surface of the member 1 made from quartz and an outer circumferential surface of the thermally conductive material 5 are in contact.
L'invention concerne un procédé de formation d'un revêtement de silice à l'aide d'un brûleur 4 pour effectuer une pulvérisation thermique de silice sur une surface circonférentielle externe d'un élément 1 fabriqué à partir de quartz, ledit procédé de formation d'un revêtement de silice étant caractérisé en ce qu'un matériau thermoconducteur 5 présentant une conductivité thermique de 30 W/m∙K ou plus à 25 °C est ajusté dans un trou interne de l'élément 1 fabriqué à partir de quartz et une pulvérisation thermique est effectuée tandis qu'une surface circonférentielle interne de l'élément 1 fabriqué à partir de quartz et une surface circonférentielle externe du matériau thermoconducteur 5 sont en contact.
石英製基材１の外周面にバーナー４を用いてシリカを溶射してシリカコーティングを形成する方法において、石英製基材１の内孔に、熱伝導率が２５℃で３０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導材５をはめ込み、石英製基材１の内周面と熱伝導材５の外周面とを接触させた状態で溶射を行うことを特徴とするシリカコーティングの形成方法。
METHOD FOR MANUFACTURING QUARTZ MEMBER, METHOD FOR FORMING SILICA COATING, AND METHOD FOR SMOOTHING SURFACE OF MEMBER MADE FROM QUARTZ
A method for forming a silica coating by using a burner 4 to perform thermal spraying of silica onto an outer circumferential surface of a member 1 made from quartz, said method for forming a silica coating being characterized in that a thermally conductive material 5 with a thermal conductivity of 30 W/m∙K or greater at 25°C is fitted into an inner hole of the member 1 made from quartz, and thermal spraying is performed while an inner circumferential surface of the member 1 made from quartz and an outer circumferential surface of the thermally conductive material 5 are in contact.
L'invention concerne un procédé de formation d'un revêtement de silice à l'aide d'un brûleur 4 pour effectuer une pulvérisation thermique de silice sur une surface circonférentielle externe d'un élément 1 fabriqué à partir de quartz, ledit procédé de formation d'un revêtement de silice étant caractérisé en ce qu'un matériau thermoconducteur 5 présentant une conductivité thermique de 30 W/m∙K ou plus à 25 °C est ajusté dans un trou interne de l'élément 1 fabriqué à partir de quartz et une pulvérisation thermique est effectuée tandis qu'une surface circonférentielle interne de l'élément 1 fabriqué à partir de quartz et une surface circonférentielle externe du matériau thermoconducteur 5 sont en contact.
石英製基材１の外周面にバーナー４を用いてシリカを溶射してシリカコーティングを形成する方法において、石英製基材１の内孔に、熱伝導率が２５℃で３０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導材５をはめ込み、石英製基材１の内周面と熱伝導材５の外周面とを接触させた状態で溶射を行うことを特徴とするシリカコーティングの形成方法。
METHOD FOR MANUFACTURING QUARTZ MEMBER, METHOD FOR FORMING SILICA COATING, AND METHOD FOR SMOOTHING SURFACE OF MEMBER MADE FROM QUARTZ
PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ÉLÉMENT EN QUARTZ, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN REVÊTEMENT EN SILICE ET PROCÉDÉ DE LISSAGE DE LA SURFACE D'UN ÉLÉMENT FABRIQUÉ À PARTIR DE QUARTZ
石英部材の製造方法、シリカコーティングの形成方法及び石英製部材表面の平滑化方法
MUNEHIRA MASAMI (Autor:in) / KATOU YUUICHI (Autor:in) / MIHARA SHOUZO (Autor:in)
28.09.2023
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
IPC:
C03B
Herstellung oder Formgebung von Glas, Mineral- oder Schlackenwolle
,
MANUFACTURE OR SHAPING OF GLASS, OR OF MINERAL OR SLAG WOOL
/
C03C
Chemische Zusammensetzungen für Gläser, Glasuren oder Emails
,
CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS
/
C04B
Kalk
,
LIME
/
C23C
Beschichten metallischer Werkstoffe
,
COATING METALLIC MATERIAL
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Pattern forming method for quartz surface and pattern forming device for quartz surface
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PATTERN FORMING METHOD FOR QUARTZ SURFACE AND PATTERN FORMING DEVICE FOR QUARTZ SURFACE
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