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Nanolithography: Selectable Nanopattern Arrays for Nanolithographic Imprint and Etch‐Mask Applications (Adv. Sci. 7/2015)

Jeong, Hyeon‐Ho / Mark, Andrew G. / Lee, Tung‐Chun / Son, Kwanghyo / Chen, Wenwen / Alarcón‐Correa, Mariana / Kim, Insook / Schütz, Gisela / Fischer, Peer

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Titel:

Nanolithography: Selectable Nanopattern Arrays for Nanolithographic Imprint and Etch‐Mask Applications (Adv. Sci. 7/2015)

Beteiligte:

Jeong, Hyeon‐Ho (Autor:in) / Mark, Andrew G. (Autor:in) / Lee, Tung‐Chun (Autor:in) / Son, Kwanghyo (Autor:in) / Chen, Wenwen (Autor:in) / Alarcón‐Correa, Mariana (Autor:in) / Kim, Insook (Autor:in) / Schütz, Gisela (Autor:in) / Fischer, Peer (Autor:in)

Erschienen in:

Advanced Science ; 2

Erscheinungsdatum:

01.07.2015

Format / Umfang:

1 pages

ISSN:

DOI:

https://doi.org/10.1002/advs.201570022

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Elektronische Ressource

Sprache:

Englisch

Schlagwörter:

glancing angle deposition , nanoparticle lithography , nanoimprint lithography , shadow growth physical vapor deposition , block copolymer micelle nanolithography

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