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LIGHT-TRANSMISSIVE LAMINATED FILM AND PRODUCTION METHOD THEREOF
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-transmissive laminated film which is excellent in thermal insulation and is suppressed in lowering of the refractive index of a metal oxide thin film and occurrence of cracks with time and its production method.SOLUTION: A light-transmissive laminated film has a thin film layer 14 which is composed of a metal oxide thin film formed on the surface of a polyolefin film 12 by the sol-gel method and a plurality of thin films including a metal thin film, laminated together, and has an organic residue in the metal oxide thin film is 0.13-0.29 g/g. Preferably, the hardening rate of the metal oxide thin film is at least 88%; the amount of a chelating agent contained in the metal oxide precursor constituting the metal oxide thin film is 0.12-0.32 moles per mole metal atom; and the quantity of light of optical energy applied to the metal oxide precursor constituting the metal oxide thin film is 100-250 mJ/cm.
【課題】断熱性に優れるとともに金属酸化物薄膜の屈折率低下、密着性低下および経時でのクラック発生を抑えた光透過性積層フィルムおよびその製造方法を提供する。【解決手段】ポリオレフィンフィルム12の面上に、ゾル—ゲル法により形成された金属酸化物薄膜および金属薄膜が含まれる複数の薄膜が積層されてなる薄膜層14を有し、金属酸化物薄膜中の有機残渣量が0.13〜0.29g/gの範囲内である光透過性積層フィルムとする。金属酸化物薄膜の硬化率は、88%以上であること、金属酸化物薄膜を形成する金属酸化物前駆体に含まれるキレート化剤の量は、金属原子1モルに対して0.12〜0.32モルの範囲内であり、金属酸化物薄膜を形成する金属酸化物前駆体に照射される光エネルギーの光量は、100〜250mJ/cm2の範囲内であることが好ましい。【選択図】図1
LIGHT-TRANSMISSIVE LAMINATED FILM AND PRODUCTION METHOD THEREOF
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-transmissive laminated film which is excellent in thermal insulation and is suppressed in lowering of the refractive index of a metal oxide thin film and occurrence of cracks with time and its production method.SOLUTION: A light-transmissive laminated film has a thin film layer 14 which is composed of a metal oxide thin film formed on the surface of a polyolefin film 12 by the sol-gel method and a plurality of thin films including a metal thin film, laminated together, and has an organic residue in the metal oxide thin film is 0.13-0.29 g/g. Preferably, the hardening rate of the metal oxide thin film is at least 88%; the amount of a chelating agent contained in the metal oxide precursor constituting the metal oxide thin film is 0.12-0.32 moles per mole metal atom; and the quantity of light of optical energy applied to the metal oxide precursor constituting the metal oxide thin film is 100-250 mJ/cm.
【課題】断熱性に優れるとともに金属酸化物薄膜の屈折率低下、密着性低下および経時でのクラック発生を抑えた光透過性積層フィルムおよびその製造方法を提供する。【解決手段】ポリオレフィンフィルム12の面上に、ゾル—ゲル法により形成された金属酸化物薄膜および金属薄膜が含まれる複数の薄膜が積層されてなる薄膜層14を有し、金属酸化物薄膜中の有機残渣量が0.13〜0.29g/gの範囲内である光透過性積層フィルムとする。金属酸化物薄膜の硬化率は、88%以上であること、金属酸化物薄膜を形成する金属酸化物前駆体に含まれるキレート化剤の量は、金属原子1モルに対して0.12〜0.32モルの範囲内であり、金属酸化物薄膜を形成する金属酸化物前駆体に照射される光エネルギーの光量は、100〜250mJ/cm2の範囲内であることが好ましい。【選択図】図1
LIGHT-TRANSMISSIVE LAMINATED FILM AND PRODUCTION METHOD THEREOF
光透過性積層フィルムおよびその製造方法
INUZUKA MASATAKA (author) / IKENO SHOICHI (author) / HIROSE MASASHI (author) / NARASAKI TETSUJI (author) / BESSHO HISAMI (author)
2015-11-02
Patent
Electronic Resource
Japanese
IPC:
B32B
LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
,
Schichtkörper, d.h. aus Ebenen oder gewölbten Schichten, z.B. mit zell- oder wabenförmiger Form, aufgebaute Erzeugnisse
/
E04B
Allgemeine Baukonstruktionen
,
GENERAL BUILDING CONSTRUCTIONS
European Patent Office | 2024
|LIGHT-TRANSMISSIVE BOARD, AND LIGHT-TRANSMISSIVE BUILDING MATERIAL WITH LIGHTING
European Patent Office | 2016
|FITTING METHOD AND REMOVAL METHOD FOR LIGHT-TRANSMISSIVE PANEL, AND LIGHT-TRANSMISSIVE PANEL
European Patent Office | 2016
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