A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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HEAT INSULATING FILM
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat insulating film capable of enhancing a reflectivity and an energy efficiency by suppressing radiation heat transfer, and improving durability.SOLUTION: A heat insulating film 10 is formed by coating a surface of a substrate 11 to suppress radiation transfer heat of the substrate 11. This heat insulating film 10 has a reflective film 12 composed of a metal silicide on a side of the substrate 11, and is configured by laminating an oxidation suppression film 13 on the reflective film 12 to suppress oxidation of the reflective film 12. The metal silicide is preferably cobalt silicide (CoSi), nickel silicide (NiSi), titanium silicide (TiSi) or tantalum silicide (TaSi), and further preferably cobalt silicide or nickel silicide. As the oxidation suppression film 13, silicon nitride (SiN) is preferable.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】反射率を高め、輻射伝熱を抑制してエネルギー効率を高めることができるとともに、耐久性を向上させることができる遮熱膜を提供する。【解決手段】遮熱膜１０は、基材１１の輻射伝熱を抑制するために基材１１表面を被覆して形成される。この遮熱膜１０は、基材１１側に金属シリサイドよりなる反射膜１２を有するとともに、その反射膜１２上に該反射膜１２の酸化を抑制する酸化抑制膜１３が積層されて構成されている。前記金属シリサイドとしては、コバルトシリサイド（ＣｏＳｉ２）、ニッケルシリサイド（ＮｉＳｉ）、チタンシリサイド（ＴｉＳｉ２）又はタンタルシリサイド（ＴａＳｉ２）が好ましく、コバルトシリサイド又はニッケルシリサイドがさらに好ましい。酸化抑制膜１３としては、窒化珪素（Ｓｉ３Ｎ４）の膜が好ましい。【選択図】図１
HEAT INSULATING FILM
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat insulating film capable of enhancing a reflectivity and an energy efficiency by suppressing radiation heat transfer, and improving durability.SOLUTION: A heat insulating film 10 is formed by coating a surface of a substrate 11 to suppress radiation transfer heat of the substrate 11. This heat insulating film 10 has a reflective film 12 composed of a metal silicide on a side of the substrate 11, and is configured by laminating an oxidation suppression film 13 on the reflective film 12 to suppress oxidation of the reflective film 12. The metal silicide is preferably cobalt silicide (CoSi), nickel silicide (NiSi), titanium silicide (TiSi) or tantalum silicide (TaSi), and further preferably cobalt silicide or nickel silicide. As the oxidation suppression film 13, silicon nitride (SiN) is preferable.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】反射率を高め、輻射伝熱を抑制してエネルギー効率を高めることができるとともに、耐久性を向上させることができる遮熱膜を提供する。【解決手段】遮熱膜１０は、基材１１の輻射伝熱を抑制するために基材１１表面を被覆して形成される。この遮熱膜１０は、基材１１側に金属シリサイドよりなる反射膜１２を有するとともに、その反射膜１２上に該反射膜１２の酸化を抑制する酸化抑制膜１３が積層されて構成されている。前記金属シリサイドとしては、コバルトシリサイド（ＣｏＳｉ２）、ニッケルシリサイド（ＮｉＳｉ）、チタンシリサイド（ＴｉＳｉ２）又はタンタルシリサイド（ＴａＳｉ２）が好ましく、コバルトシリサイド又はニッケルシリサイドがさらに好ましい。酸化抑制膜１３としては、窒化珪素（Ｓｉ３Ｎ４）の膜が好ましい。【選択図】図１
HEAT INSULATING FILM
遮熱膜
HATAMURA RYUTA (author) / OKUHARA YOSHIKI (author) / KUROYAMA TOMOHIRO (author) / IGIMI DAISUKE (author)
2017-06-08
Patent
Electronic Resource
Japanese
| European Patent Office | 2017
| European Patent Office | 2018
HEAT INSULATING WINDOW FILM, HEAT INSULATING WINDOW GLASS, AND WINDOW
| European Patent Office | 2017