A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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SHIELD LAYER AND MANUFACTURING METHOD OF SHIELD LAYER AND OXIDE SPUTTERING TARGET
To provide a shield layer having a high transmission coefficient of a visible light and a sufficiently high resistance as well as an excellent environmental resistance (heat resistance, moisture resistance), a manufacturing method of the shield layer, and an oxide sputtering target.SOLUTION: A shield layer is arranged in a display panel, and consists of an oxide including 60 atm% or more and 80 atm% and less of In, and a rest of Si and an inevitable impurity metal element when a total of a metal composition is 100 atm%. The shield layer may include 1 atm% or more and 32 atm% or less of Zr when the total of the metal composition is 100 atm%.SELECTED DRAWING: None
【課題】可視光の透過率が高く、かつ、抵抗値が十分に高く、さらに、優れた耐環境性（耐熱性、耐湿性）を有するシールド層、シールド層の製造方法、及び、酸化物スパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】ディスプレイパネルに配設されるシールド層であって、金属成分の合計を１００原子％として、Ｉｎを６０原子％以上８０原子％以下の範囲で含み、残部がＳｉ及び不可避不純物金属元素とされた酸化物からなることを特徴とする。また、金属成分の合計を１００原子％として、さらに、Ｚｒを１原子％以上３２原子％以下の範囲で含んでいてもよい。【選択図】なし
SHIELD LAYER AND MANUFACTURING METHOD OF SHIELD LAYER AND OXIDE SPUTTERING TARGET
To provide a shield layer having a high transmission coefficient of a visible light and a sufficiently high resistance as well as an excellent environmental resistance (heat resistance, moisture resistance), a manufacturing method of the shield layer, and an oxide sputtering target.SOLUTION: A shield layer is arranged in a display panel, and consists of an oxide including 60 atm% or more and 80 atm% and less of In, and a rest of Si and an inevitable impurity metal element when a total of a metal composition is 100 atm%. The shield layer may include 1 atm% or more and 32 atm% or less of Zr when the total of the metal composition is 100 atm%.SELECTED DRAWING: None
【課題】可視光の透過率が高く、かつ、抵抗値が十分に高く、さらに、優れた耐環境性（耐熱性、耐湿性）を有するシールド層、シールド層の製造方法、及び、酸化物スパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】ディスプレイパネルに配設されるシールド層であって、金属成分の合計を１００原子％として、Ｉｎを６０原子％以上８０原子％以下の範囲で含み、残部がＳｉ及び不可避不純物金属元素とされた酸化物からなることを特徴とする。また、金属成分の合計を１００原子％として、さらに、Ｚｒを１原子％以上３２原子％以下の範囲で含んでいてもよい。【選択図】なし
SHIELD LAYER AND MANUFACTURING METHOD OF SHIELD LAYER AND OXIDE SPUTTERING TARGET
シールド層、シールド層の製造方法、及び、酸化物スパッタリングターゲット
MORI RIE (author) / YAMAGUCHI TAKESHI (author)
2019-11-07
Patent
Electronic Resource
Japanese
IPC:
C23C
Beschichten metallischer Werkstoffe
,
COATING METALLIC MATERIAL
/
C03C
Chemische Zusammensetzungen für Gläser, Glasuren oder Emails
,
CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS
/
C04B
Kalk
,
LIME
/
G06F
ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
,
Elektrische digitale Datenverarbeitung
SHIELD LAYER, METHOD FOR PRODUCING SHIELD LAYER, AND OXIDE SPUTTERING TARGET
| European Patent Office | 2019
| European Patent Office | 2021
| European Patent Office | 2020
RADIATION SHIELD UNIT, METHOD OF MANUFACTURING RADIATION SHIELD UNIT, AND RADIATION SHIELD STRUCTURE
| European Patent Office | 2023