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POTASSIUM SODIUM NIOBATE SPUTTERING TARGET
To provide a sputtering target, formed from a potassium sodium niobate sintered body to which a dopant has been added, and capable of suppressing the generation of particles.SOLUTION: A sputtering is target formed from a potassium sodium niobate sintered body to which a dopant has been added; as a dopant, the sputtering target includes one or more of Li, Mg, Ca, Sr, Ba, Bi, Sb, V, In, Ta, Mo, W, Cr, Ti, Zr, Hf, Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Cu, Zn, Ag, Mn, Fe, Co, Ni, Al, Si, Ge, Sn and Ga; and an in-plane variation coefficient of a dopant concentration of the sputtering target is 0.12 or less.SELECTED DRAWING: None
【課題】ドーパントが添加されたニオブ酸カリウムナトリウムの焼結体からなり、パーティクルの発生を抑制することができるスパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】ドーパントを添加したニオブ酸ナトリウムカリウム焼結体からなるスパッタリングターゲットであって、ドーパントして、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｖ、Ｉｎ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｇ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｇａ、のいずれか一種以上を含有し、前記スパッタリングターゲットの面内において、ドーパント濃度の変動係数が０．１２以下であることを特徴とするスパッタリングターゲット。【選択図】なし
POTASSIUM SODIUM NIOBATE SPUTTERING TARGET
To provide a sputtering target, formed from a potassium sodium niobate sintered body to which a dopant has been added, and capable of suppressing the generation of particles.SOLUTION: A sputtering is target formed from a potassium sodium niobate sintered body to which a dopant has been added; as a dopant, the sputtering target includes one or more of Li, Mg, Ca, Sr, Ba, Bi, Sb, V, In, Ta, Mo, W, Cr, Ti, Zr, Hf, Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Cu, Zn, Ag, Mn, Fe, Co, Ni, Al, Si, Ge, Sn and Ga; and an in-plane variation coefficient of a dopant concentration of the sputtering target is 0.12 or less.SELECTED DRAWING: None
【課題】ドーパントが添加されたニオブ酸カリウムナトリウムの焼結体からなり、パーティクルの発生を抑制することができるスパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】ドーパントを添加したニオブ酸ナトリウムカリウム焼結体からなるスパッタリングターゲットであって、ドーパントして、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｖ、Ｉｎ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｇ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｇａ、のいずれか一種以上を含有し、前記スパッタリングターゲットの面内において、ドーパント濃度の変動係数が０．１２以下であることを特徴とするスパッタリングターゲット。【選択図】なし
POTASSIUM SODIUM NIOBATE SPUTTERING TARGET
ニオブ酸カリウムナトリウムスパッタリングターゲット
SAKASHITA RYOSUKE (author) / SHIBUYA YOSHITAKA (author)
2020-11-12
Patent
Electronic Resource
Japanese
POTASSIUM SODIUM NIOBATE SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD THEREOF
| European Patent Office | 2024
Potassium sodium niobate sputtering target and production method thereof
| European Patent Office | 2025
Potassium sodium niobate sputtering target and production method thereof
| European Patent Office | 2023
POTASSIUM SODIUM NIOBATE SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SAME
| European Patent Office | 2019