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POTASSIUM SODIUM NIOBATE SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SAME
A potassium sodium niobate sputtering target which is characterized by having a relative density of 95% or more. A method for producing a potassium sodium niobate sputtering target, which is characterized by: mixing an Nb2O5 powder, a K2Co3 powder and an Na2Co3 powder; grinding the mixed powder so that the particle diameter d50 is 100 μm or less; and subjecting the thus-obtained ground powder to hot press sintering in an inert gas or vacuum atmosphere at a temperature of 900°C or more but less than 1,150°C under a load of 150-400 kgf/cm2. The present invention addresses the problem of providing a high-density potassium sodium niobate sputtering target which enables the industrial production of a potassium sodium niobate film by means of a sputtering method.
L'invention concerne une cible de pulvérisation de sodium niobate de potassium qui est caractérisée en ce qu'elle présente une densité relative égale ou supérieure à 95 %. L'invention concerne également un procédé de production d'une cible de pulvérisation de sodium niobate de potassium, qui est caractérisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à : mélanger une poudre de Nb2O5, une poudre de K2Co3 et une poudre de Na2Co3 ; broyer la poudre mélangée de telle sorte que le diamètre de particule d50 soit inférieur ou égal à 100 µm ; et soumettre la poudre broyée ainsi obtenue à un frittage par pressage à chaud dans une atmosphère de gaz inerte ou sous vide à une température de 900 °C ou plus, mais inférieure à 1 150 °C sous une charge de 150 à 400 kgf/cm2. Le problème à résoudre par la présente invention est de fournir une cible de pulvérisation de sodium niobate de potassium à haute densité qui permet la production industrielle d'un film de sodium niobate de potassium au moyen d'un procédé de pulvérisation.
相対密度が９５％以上であることを特徴とするニオブ酸カリウムナトリウムスパッタリングターゲット。Ｎｂ２Ｏ５粉末、Ｋ２Ｃｏ３粉末、Ｎａ２Ｃｏ３粉末を混合し、この混合粉を粉砕して粒子径ｄ５０を１００μｍ以下とし、得られた粉砕粉を、不活性ガス又は真空雰囲気中、温度９００℃以上１１５０℃未満、荷重１５０～４００ｋｇｆ／ｃｍ２の条件下で、ホットプレス焼結することを特徴とするニオブ酸カリウムナトリウムスパッタリングターゲットの製造方法。本発明は、工業的に、スパッタリング法によるニオブ酸カリウムナトリウム膜を成膜することができる、高密度のニオブ酸カリウムナトリウムのスパッタリングターゲットを提供することを課題とする。
POTASSIUM SODIUM NIOBATE SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SAME
A potassium sodium niobate sputtering target which is characterized by having a relative density of 95% or more. A method for producing a potassium sodium niobate sputtering target, which is characterized by: mixing an Nb2O5 powder, a K2Co3 powder and an Na2Co3 powder; grinding the mixed powder so that the particle diameter d50 is 100 μm or less; and subjecting the thus-obtained ground powder to hot press sintering in an inert gas or vacuum atmosphere at a temperature of 900°C or more but less than 1,150°C under a load of 150-400 kgf/cm2. The present invention addresses the problem of providing a high-density potassium sodium niobate sputtering target which enables the industrial production of a potassium sodium niobate film by means of a sputtering method.
L'invention concerne une cible de pulvérisation de sodium niobate de potassium qui est caractérisée en ce qu'elle présente une densité relative égale ou supérieure à 95 %. L'invention concerne également un procédé de production d'une cible de pulvérisation de sodium niobate de potassium, qui est caractérisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à : mélanger une poudre de Nb2O5, une poudre de K2Co3 et une poudre de Na2Co3 ; broyer la poudre mélangée de telle sorte que le diamètre de particule d50 soit inférieur ou égal à 100 µm ; et soumettre la poudre broyée ainsi obtenue à un frittage par pressage à chaud dans une atmosphère de gaz inerte ou sous vide à une température de 900 °C ou plus, mais inférieure à 1 150 °C sous une charge de 150 à 400 kgf/cm2. Le problème à résoudre par la présente invention est de fournir une cible de pulvérisation de sodium niobate de potassium à haute densité qui permet la production industrielle d'un film de sodium niobate de potassium au moyen d'un procédé de pulvérisation.
相対密度が９５％以上であることを特徴とするニオブ酸カリウムナトリウムスパッタリングターゲット。Ｎｂ２Ｏ５粉末、Ｋ２Ｃｏ３粉末、Ｎａ２Ｃｏ３粉末を混合し、この混合粉を粉砕して粒子径ｄ５０を１００μｍ以下とし、得られた粉砕粉を、不活性ガス又は真空雰囲気中、温度９００℃以上１１５０℃未満、荷重１５０～４００ｋｇｆ／ｃｍ２の条件下で、ホットプレス焼結することを特徴とするニオブ酸カリウムナトリウムスパッタリングターゲットの製造方法。本発明は、工業的に、スパッタリング法によるニオブ酸カリウムナトリウム膜を成膜することができる、高密度のニオブ酸カリウムナトリウムのスパッタリングターゲットを提供することを課題とする。
POTASSIUM SODIUM NIOBATE SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SAME
CIBLE DE PULVÉRISATION DE SODIUM NIOBATE DE POTASSIUM ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
ニオブ酸カリウムナトリウムスパッタリングターゲット及びその製造方法
SAKASHITA RYOSUKE (author) / TAKAMURA HIROSHI (author) / NARA ATSUSHI (author) / SUZUKI RYO (author)
2019-09-06
Patent
Electronic Resource
Japanese
POTASSIUM SODIUM NIOBATE SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SAME
| European Patent Office | 2023
POTASSIUM SODIUM NIOBATE SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD THEREOF
| European Patent Office | 2024
Potassium sodium niobate sputtering target and production method thereof
| European Patent Office | 2025