A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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METHOD FOR PRODUCING ELECTROSTATIC CHUCK AND ELECTROSTATIC CHUCK
본 발명은 유전층의 두께 변동을 작게 억제하는 것을 과제로 한다. 본 발명의 정전 척의 제법은, (a) 성형형에 세라믹 분체, 용매, 분산제 및 겔화제를 포함하는 세라믹 슬러리를 투입하고, 그 성형형 내에서 겔화제를 화학 반응시켜 슬러리를 겔화시킨 후 이형함으로써, 제1 및 제2 세라믹 성형체를 얻는 공정과, (b) 제1 및 제2 세라믹 성형체를 건조한 후 탈지하고, 또 하소함으로써, 제1 및 제2 세라믹 하소체를 얻는 공정과, (c) 제1 및 제2 세라믹 하소체 중 어느 한쪽의 표면에 정전 전극용 페이스트를 인쇄하여 정전 전극으로 하는 공정과, (d) 정전 전극을 사이에 두도록 하여 제1 및 제2 세라믹 하소체를 중첩시킨 상태에서 핫프레스 소성하는 공정을 포함한다.
METHOD FOR PRODUCING ELECTROSTATIC CHUCK AND ELECTROSTATIC CHUCK
본 발명은 유전층의 두께 변동을 작게 억제하는 것을 과제로 한다. 본 발명의 정전 척의 제법은, (a) 성형형에 세라믹 분체, 용매, 분산제 및 겔화제를 포함하는 세라믹 슬러리를 투입하고, 그 성형형 내에서 겔화제를 화학 반응시켜 슬러리를 겔화시킨 후 이형함으로써, 제1 및 제2 세라믹 성형체를 얻는 공정과, (b) 제1 및 제2 세라믹 성형체를 건조한 후 탈지하고, 또 하소함으로써, 제1 및 제2 세라믹 하소체를 얻는 공정과, (c) 제1 및 제2 세라믹 하소체 중 어느 한쪽의 표면에 정전 전극용 페이스트를 인쇄하여 정전 전극으로 하는 공정과, (d) 정전 전극을 사이에 두도록 하여 제1 및 제2 세라믹 하소체를 중첩시킨 상태에서 핫프레스 소성하는 공정을 포함한다.
METHOD FOR PRODUCING ELECTROSTATIC CHUCK AND ELECTROSTATIC CHUCK
정전 척의 제법 및 정전 척
2018-12-13
Patent
Electronic Resource
Korean
IPC:
H01L
Halbleiterbauelemente
,
SEMICONDUCTOR DEVICES
/
B23Q
DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING
,
Einzelheiten, Bestandteile oder Zubehör für Werkzeugmaschinen, z.B. Anordnungen zum Kopieren oder Steuern
/
C04B
Kalk
,
LIME
/
H02N
Elektrische Maschinen, soweit nicht anderweitig vorgesehen
,
ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTROSTATIC CHUCK AND METHOD FOR PRODUCING ELECTROSTATIC CHUCK
| European Patent Office | 2025
Method for producing electrostatic chuck and electrostatic chuck
| European Patent Office | 2016
Method for producing electrostatic chuck and electrostatic chuck
| European Patent Office | 2017
METHOD FOR PRODUCING ELECTROSTATIC CHUCK AND ELECTROSTATIC CHUCK
European Patent Office | 2017
| European Patent Office | 2023