A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER, ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE, AND PRODUCTION METHOD FOR ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER
According to the present invention, an electrostatic chuck member comprises: a dielectric substrate that has a mounting surface for mounting a sample and includes a first support plate and a second support plate that are layered in the thickness direction; and an adsorption electrode that is embedded in the dielectric substrate. A gas channel is formed between the first support plate and the second support plate as a groove that is provided in at least one of the surfaces that are opposite each other and is covered by the other. The height-direction measurement of the gas channel is 90–300 μm, and the width measurement of the gas channel is at least 500 μm but less than 3000 μm.
Selon la présente invention, un élément de mandrin électrostatique comprend : un substrat diélectrique qui a une surface de montage pour le montage d'un échantillon et comprend une première plaque de support et une seconde plaque de support qui sont superposées dans la direction de l'épaisseur ; et une électrode d'adsorption qui est intégrée dans le substrat diélectrique. Un canal de gaz est formé entre la première plaque de support et la seconde plaque de support sous la forme d'une rainure prévue dans au moins l'une des surfaces opposées l'une à l'autre et est recouverte par l'autre. La mesure de la hauteur du canal de gaz est de 90 à 300 µm, et la mesure de la largeur du canal de gaz est supérieure ou égale à 500 µm mais inférieure à 3000 µm.
試料を搭載する載置面が設けられ厚さ方向に積層される第１支持板および第２支持板を有する誘電体基板と、誘電体基板の内部に埋め込まれる吸着電極と、を備え、第１支持板と第２支持板との間には、互いに対向する面のうち少なくとも一方に設けられ他方に覆われる凹溝によって形成されるガス流路が設けられ、ガス流路の高さ方向の寸法は、９０μｍ以上３００μｍ以下であり、ガス流路の幅寸法は、５００μｍ以上３０００μｍ未満である、静電チャック部材。
ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER, ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE, AND PRODUCTION METHOD FOR ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER
According to the present invention, an electrostatic chuck member comprises: a dielectric substrate that has a mounting surface for mounting a sample and includes a first support plate and a second support plate that are layered in the thickness direction; and an adsorption electrode that is embedded in the dielectric substrate. A gas channel is formed between the first support plate and the second support plate as a groove that is provided in at least one of the surfaces that are opposite each other and is covered by the other. The height-direction measurement of the gas channel is 90–300 μm, and the width measurement of the gas channel is at least 500 μm but less than 3000 μm.
Selon la présente invention, un élément de mandrin électrostatique comprend : un substrat diélectrique qui a une surface de montage pour le montage d'un échantillon et comprend une première plaque de support et une seconde plaque de support qui sont superposées dans la direction de l'épaisseur ; et une électrode d'adsorption qui est intégrée dans le substrat diélectrique. Un canal de gaz est formé entre la première plaque de support et la seconde plaque de support sous la forme d'une rainure prévue dans au moins l'une des surfaces opposées l'une à l'autre et est recouverte par l'autre. La mesure de la hauteur du canal de gaz est de 90 à 300 µm, et la mesure de la largeur du canal de gaz est supérieure ou égale à 500 µm mais inférieure à 3000 µm.
試料を搭載する載置面が設けられ厚さ方向に積層される第１支持板および第２支持板を有する誘電体基板と、誘電体基板の内部に埋め込まれる吸着電極と、を備え、第１支持板と第２支持板との間には、互いに対向する面のうち少なくとも一方に設けられ他方に覆われる凹溝によって形成されるガス流路が設けられ、ガス流路の高さ方向の寸法は、９０μｍ以上３００μｍ以下であり、ガス流路の幅寸法は、５００μｍ以上３０００μｍ未満である、静電チャック部材。
ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER, ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE, AND PRODUCTION METHOD FOR ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER
ÉLÉMENT DE MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE, DISPOSITIF DE MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ÉLÉMENT DE MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE
静電チャック部材、静電チャック装置、および静電チャック部材の製造方法
INUI SATOYOSHI (author) / ICHIYOSHI TAKU (author) / OTSUKA TAKESHI (author)
2023-06-29
Patent
Electronic Resource
Japanese
| European Patent Office | 2023
| European Patent Office | 2023
| European Patent Office | 2023
ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER AND ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE
| European Patent Office | 2023
ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER AND ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE
| European Patent Office | 2017