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Method of Manufacturing Transparent Sesquioxide Sintered Body and Transparent Sesquioxide Sintered Body Manufactured by the Method
실제 사용 수준의 품질을 지진 투명한 MO타입 세스퀴옥시드 소결체가 안정한 방식으로 제조될 수 있는 투명한 세스퀴옥시드 소결체의 제조 방법이 제공된다. Y, Sc 및 란탄족 원소로 구성되는 군으로부터 선택된 적어도 하나의 희토류 원소의 산화물의 입자와 Zr 산화물 입자를 포함하는 분말이 원료 분말로서 제조되며, 여기서 희토류 원소 산화물 입자들의 입자 크기 분포나, 또는 희토류 원소 산화물 입자들이 응집되어 이차 입자를 형성한 경우 이차 입자들의 입자 크기 분포에 있어서, 최소 입자 크기 편에서 누적 입자량이 총 입자량을 기준으로 2.5%인 입경 D값이 180nm에서 2000nm까지의 범위이다. 원료 분말이 정해진 형상으로 프레스 성형된 후 소결되어 투명한 MO타입 세스퀴옥시드 소결체가 제조된다(M은 Y, Sc 및 란탄족 원소로 구성되는 군으로부터 선택된 적어도 하나의 희토류 원소이다).
Method of Manufacturing Transparent Sesquioxide Sintered Body and Transparent Sesquioxide Sintered Body Manufactured by the Method
실제 사용 수준의 품질을 지진 투명한 MO타입 세스퀴옥시드 소결체가 안정한 방식으로 제조될 수 있는 투명한 세스퀴옥시드 소결체의 제조 방법이 제공된다. Y, Sc 및 란탄족 원소로 구성되는 군으로부터 선택된 적어도 하나의 희토류 원소의 산화물의 입자와 Zr 산화물 입자를 포함하는 분말이 원료 분말로서 제조되며, 여기서 희토류 원소 산화물 입자들의 입자 크기 분포나, 또는 희토류 원소 산화물 입자들이 응집되어 이차 입자를 형성한 경우 이차 입자들의 입자 크기 분포에 있어서, 최소 입자 크기 편에서 누적 입자량이 총 입자량을 기준으로 2.5%인 입경 D값이 180nm에서 2000nm까지의 범위이다. 원료 분말이 정해진 형상으로 프레스 성형된 후 소결되어 투명한 MO타입 세스퀴옥시드 소결체가 제조된다(M은 Y, Sc 및 란탄족 원소로 구성되는 군으로부터 선택된 적어도 하나의 희토류 원소이다).
Method of Manufacturing Transparent Sesquioxide Sintered Body and Transparent Sesquioxide Sintered Body Manufactured by the Method
투명한 세스퀴옥시드 소결체의 제조 방법, 및 이 방법에 의해서 제조된 투명한 세스퀴옥시드 소결체
2020-06-02
Patent
Electronic Resource
Korean
IPC:
C04B
Kalk
,
LIME
European Patent Office | 2015
|Ho ion doped sesquioxide transparent ceramic and preparation method thereof
European Patent Office | 2022
|European Patent Office | 2018
|European Patent Office | 2021
|European Patent Office | 2020
|