A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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Plasma resistant dense ceramic coating film and manufacturing method thereof
The present invention relates to a manufacturing method of a dense ceramic coating film using a melting and coating method for ceramics for plasma resistance and, more specifically, to a ceramic coating film forming method using YAS based (Y_2O_3-Al_2O_3-SiO_2) frit. The dense ceramic coating film manufacturing method for plasma resistance comprises the following steps of: producing glass frit by melting Y_2O_3, Al_2O_3, SiO_2, or a precursor thereof; forming a ceramic coating film by spreading the produced YAS based glass frit on a ceramic base and then, melting the same at the temperature between the softening point temperature of the glass frit and the production temperature of the glass frit; and reheating the ceramic base on which the ceramic coating film is formed, wherein the average diameter of the frit (D_50) is 20 to 60 μm. The present invention has an economical advantage since a separate high-priced device for coating is not needed.
본 발명은 내플라즈마용 세라믹스를 위한 용융코팅법을 이용한 치밀 세라믹 코팅막의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 YAS계(YO-AlO-SiO) 프릿을 이용한 세라믹 코팅막 형성방법에 있어서, YO, AlO, SiO또는 그들의 전구체를 용융하여 유리 프릿을 제조하는 단계; 제조된 YAS계 유리 프릿을 세라믹 기지 위에 도포한 후 유리 프릿의 연화점 온도부터 유리 프릿 제조 온도 사이의 온도에서 용융시켜 세라믹 코팅막을 형성하는 단계; 및 상기 세라믹 코팅막이 형성된 세라믹 기지를 재열처리하는 단계;를 포함하며, 상기 프릿의 평균입경(D)이 20㎛ ~ 60㎛인 것을 특징으로 하는 내플라즈마용 치밀 세라믹 코팅막의 제조방법을 제공한다.
Plasma resistant dense ceramic coating film and manufacturing method thereof
The present invention relates to a manufacturing method of a dense ceramic coating film using a melting and coating method for ceramics for plasma resistance and, more specifically, to a ceramic coating film forming method using YAS based (Y_2O_3-Al_2O_3-SiO_2) frit. The dense ceramic coating film manufacturing method for plasma resistance comprises the following steps of: producing glass frit by melting Y_2O_3, Al_2O_3, SiO_2, or a precursor thereof; forming a ceramic coating film by spreading the produced YAS based glass frit on a ceramic base and then, melting the same at the temperature between the softening point temperature of the glass frit and the production temperature of the glass frit; and reheating the ceramic base on which the ceramic coating film is formed, wherein the average diameter of the frit (D_50) is 20 to 60 μm. The present invention has an economical advantage since a separate high-priced device for coating is not needed.
본 발명은 내플라즈마용 세라믹스를 위한 용융코팅법을 이용한 치밀 세라믹 코팅막의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 YAS계(YO-AlO-SiO) 프릿을 이용한 세라믹 코팅막 형성방법에 있어서, YO, AlO, SiO또는 그들의 전구체를 용융하여 유리 프릿을 제조하는 단계; 제조된 YAS계 유리 프릿을 세라믹 기지 위에 도포한 후 유리 프릿의 연화점 온도부터 유리 프릿 제조 온도 사이의 온도에서 용융시켜 세라믹 코팅막을 형성하는 단계; 및 상기 세라믹 코팅막이 형성된 세라믹 기지를 재열처리하는 단계;를 포함하며, 상기 프릿의 평균입경(D)이 20㎛ ~ 60㎛인 것을 특징으로 하는 내플라즈마용 치밀 세라믹 코팅막의 제조방법을 제공한다.
Plasma resistant dense ceramic coating film and manufacturing method thereof
내플라즈마용 치밀 세라믹 코팅막 및 그의 제조방법
LEE HYUN KWUON (author) / PARK EUI KEUN (author) / KIM TAE GYEONG (author) / OH HYEON MYEONG (author)
2019-06-18
Patent
Electronic Resource
Korean
Plasma resistant dense ceramic coating film and manufacturing method thereof
European Patent Office | 2020
PLASMA-RESISTANT CERAMIC MEMBER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
| European Patent Office | 2022
| European Patent Office | 2022
| European Patent Office | 2023