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Ceramics having excellent plasma resistance and manufacturing method of the same
The present invention relates to a plasma-resistant ceramic and a manufacturing method thereof. The plasma-resistant ceramic comprises: a bulk ceramic having an oxide composition; and a plasma-resistant surface modification film of which the surface is modified with a composition including at least one anion selected from the group consisting of F^- and Cl^-, wherein the plasma-resistant surface modification film is a film formed by surface-reacting the bulk ceramic with an F-based ion-containing precursor, a Cl-based ion-containing precursor, or a mixture thereof to form a reaction product, and modifying the reaction product by phase stabilization through heat treatment. According to the present invention, the surface modification film exhibiting plasma resistance even in various plasma environments is densely formed on the surface of bulk ceramics through surface modification using a low-temperature surface reaction and a phase stabilization process, thereby minimizing the generation of contaminated particles even in a high-power plasma environment and having high durability compared to existing commercial materials such as Si and SiC.
본 발명은, 산화물 조성의 벌크 세라믹스; 및 상기 벌크 세라믹스의 표면이 F- 및 Cl- 로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 음이온을 포함하는 조성으로 개질된 내플라즈마성 표면개질막;을 포함하는 세라믹스로서, 상기 내플라즈마성 표면개질막은 F계 이온 함유 전구체, Cl계 이온 함유 전구체 또는 이들의 혼합물에 의해 상기 벌크 세라믹스가 표면 반응되어 반응생성물이 형성되고 열처리를 통한 상안정화에 의해 상기 반응생성물이 개질되어 형성된 막인 것을 특징으로 하는 내플라즈마 세라믹스 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 다양한 플라즈마 환경 에서도 내플라즈마 특성을 나타내는 표면개질막을 저온 표면반응 및 상안정화 공정을 이용한 표면개질을 통해 벌크 세라믹스 표면에 치밀하게 형성하여 고출력 플라즈마 환경에서도 오염입자 발생을 최소화하면서 Si 및 SiC 계열 등의 기존 상용 소재 대비 높은 내구성을 가진다.
Ceramics having excellent plasma resistance and manufacturing method of the same
The present invention relates to a plasma-resistant ceramic and a manufacturing method thereof. The plasma-resistant ceramic comprises: a bulk ceramic having an oxide composition; and a plasma-resistant surface modification film of which the surface is modified with a composition including at least one anion selected from the group consisting of F^- and Cl^-, wherein the plasma-resistant surface modification film is a film formed by surface-reacting the bulk ceramic with an F-based ion-containing precursor, a Cl-based ion-containing precursor, or a mixture thereof to form a reaction product, and modifying the reaction product by phase stabilization through heat treatment. According to the present invention, the surface modification film exhibiting plasma resistance even in various plasma environments is densely formed on the surface of bulk ceramics through surface modification using a low-temperature surface reaction and a phase stabilization process, thereby minimizing the generation of contaminated particles even in a high-power plasma environment and having high durability compared to existing commercial materials such as Si and SiC.
본 발명은, 산화물 조성의 벌크 세라믹스; 및 상기 벌크 세라믹스의 표면이 F- 및 Cl- 로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 음이온을 포함하는 조성으로 개질된 내플라즈마성 표면개질막;을 포함하는 세라믹스로서, 상기 내플라즈마성 표면개질막은 F계 이온 함유 전구체, Cl계 이온 함유 전구체 또는 이들의 혼합물에 의해 상기 벌크 세라믹스가 표면 반응되어 반응생성물이 형성되고 열처리를 통한 상안정화에 의해 상기 반응생성물이 개질되어 형성된 막인 것을 특징으로 하는 내플라즈마 세라믹스 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 다양한 플라즈마 환경 에서도 내플라즈마 특성을 나타내는 표면개질막을 저온 표면반응 및 상안정화 공정을 이용한 표면개질을 통해 벌크 세라믹스 표면에 치밀하게 형성하여 고출력 플라즈마 환경에서도 오염입자 발생을 최소화하면서 Si 및 SiC 계열 등의 기존 상용 소재 대비 높은 내구성을 가진다.
Ceramics having excellent plasma resistance and manufacturing method of the same
내플라즈마 특성이 우수한 세라믹스 및 그 제조방법
LEE HYUN KWOUN (author) / PARK EUI KEUN (author) / JANG HWAN YOON (author) / LEE SUNG MIN (author) / OH YOON SUK (author)
2023-12-05
Patent
Electronic Resource
Korean
CEMENT COMPOSITE HAVING EXCELLENT SALT RESISTANCE AND MANUFACTURING METHOD FOR THE SAME
European Patent Office | 2022
|Stone fixing device having excellent shock resistance and manufacturing method thereof
European Patent Office | 2021
|LOW-GLOSS CURED PRODUCT HAVING EXCELLENT STAIN RESISTANCE, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
European Patent Office | 2020
|European Patent Office | 2019
|Low-gloss cured product having excellent stain resistance, and manufacturing method therefor
European Patent Office | 2023
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