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PRODUCTION METHOD FOR FORSTERITE FINE PARTICLES
A production method for forsterite fine particles having a primary particle diameter of 1-200nm when observed using an electron microscope, said method being characterized in that a solution containing a water-soluble magnesium salt and a colliodal silica at a magnesium atom and silicon atom mol. ratio (Mg/Si) of 2 is spray-dried at equal to or greater than 50°C and less than 300°C and, subsequently, fired in an atmosphere of 800-1000°C.
La présente invention concerne un procédé de production de particules fines de forstérite ayant un diamètre de particule primaire de 1 -200 nm lorsqu'elles sont observées à l'aide d'un microscope électronique, ledit procédé étant caractérisé en ce qu'une solution contenant un sel de magnésium hydrosoluble et une silice colloïdale sous un rapport molaire des atomes de magnésium et des atomes de silicium (Mg/Si) de 2 est séchée par pulvérisation à une température égale ou supérieure à 50°C et inférieure à 300°C et, par la suite, cuite sous une atmosphère de 800 à 1000°C.
水溶性マグネシウム塩及びコロイダルシリカをマグネシウム原子とケイ素原子とのモル比（Ｍｇ／Ｓｉ）２で含有する溶液を５０℃以上３００℃未満の温度で噴霧乾燥し、その後大気中で８００乃至１０００℃の温度で焼成することを特徴とする電子顕微鏡観察による一次粒子径が１乃至２００ｎｍの範囲のフォルステライト微粒子の製造方法による。
PRODUCTION METHOD FOR FORSTERITE FINE PARTICLES
A production method for forsterite fine particles having a primary particle diameter of 1-200nm when observed using an electron microscope, said method being characterized in that a solution containing a water-soluble magnesium salt and a colliodal silica at a magnesium atom and silicon atom mol. ratio (Mg/Si) of 2 is spray-dried at equal to or greater than 50°C and less than 300°C and, subsequently, fired in an atmosphere of 800-1000°C.
La présente invention concerne un procédé de production de particules fines de forstérite ayant un diamètre de particule primaire de 1 -200 nm lorsqu'elles sont observées à l'aide d'un microscope électronique, ledit procédé étant caractérisé en ce qu'une solution contenant un sel de magnésium hydrosoluble et une silice colloïdale sous un rapport molaire des atomes de magnésium et des atomes de silicium (Mg/Si) de 2 est séchée par pulvérisation à une température égale ou supérieure à 50°C et inférieure à 300°C et, par la suite, cuite sous une atmosphère de 800 à 1000°C.
水溶性マグネシウム塩及びコロイダルシリカをマグネシウム原子とケイ素原子とのモル比（Ｍｇ／Ｓｉ）２で含有する溶液を５０℃以上３００℃未満の温度で噴霧乾燥し、その後大気中で８００乃至１０００℃の温度で焼成することを特徴とする電子顕微鏡観察による一次粒子径が１乃至２００ｎｍの範囲のフォルステライト微粒子の製造方法による。
PRODUCTION METHOD FOR FORSTERITE FINE PARTICLES
PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE PARTICULES FINES DE FORSTÉRITE
フォルステライト微粒子の製造方法
ISAJI TADAYUKI (author) / OGIHARA TAKASHI (author) / KODERA TAKAYUKI (author)
2015-10-01
Patent
Electronic Resource
Japanese