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OXIDE SINTERED COMPACT
Provided is an oxide sintered compact substantially comprising indium, tin, magnesium, and oxygen, the proportion of tin being such that the atomic ratio Sn/(In+Sn+Mg) is 5–15%, the proportion of magnesium being such that the atomic ratio Mg/(In+Sn+Mg) is 0.1–2.0%, and the remainder comprising indium and oxygen, wherein said oxide sintered compact is characterized by having a transverse rupture strength of at least 140 MPa when the oxide sintered compact has a surface roughness Ra of 0.3–0.5 μm. The present invention addresses the problem of providing an oxide sintered compact for use as a sputtering target capable of reducing target cracking and particle generation during film formation, and capable of forming a thin film exhibiting superior amorphous stability and durability.
L'invention concerne une pastille frittée d'oxyde comprenant essentiellement de l'indium, de l'étain, du magnésium et de l'oxygène, la proportion d'étain étant telle que le rapport atomique Sn/(In+ Sn+Mg) est de 5 à 15 %, la proportion de magnésium étant telle que le rapport atomique Mg/(In+Sn+Mg) est de 0,1 à 2,0 % et le reste comprenant de l'indium et de l'oxygène, ladite pastille frittée d'oxyde étant caractérisée en ce qu'elle présente une résistance à la rupture transversale d'au moins 140 MPa lorsque la pastille frittée d'oxyde présente une rugosité de surface Ra de 0,3 à 0,5 µm. Le problème à la base de la présente invention concerne une pastille frittée d'oxyde destinée à être utilisée en tant que cible de pulvérisation pouvant réduire la fissuration de la cible et la génération de particules pendant la formation du film et pouvant former un film mince présentant une stabilité et une durabilité amorphes supérieures.
実質的にインジウム、スズ、マグネシウム及び酸素からなり、スズがＳｎ／（Ｉｎ＋Ｓｎ＋Ｍｇ）の原子数比で５～１５％の割合、マグネシウムがＭｇ／（Ｉｎ＋Ｓｎ＋Ｍｇ）の原子数比で０．１～２．０％の割合で含有されており、残部がインジウム及び酸素からなる焼結体であって、前記焼結体の表面粗さＲａが０．３～０．５μｍであるときの抗折強度が１４０ＭＰａ以上であることを特徴とする酸化物焼結体。成膜時にターゲット割れやパーティクル発生を低減することができると共に、非晶質安定性や耐久性に優れた薄膜を形成することができるスパッタリングターゲット用酸化物焼結体を提供することを課題とする。
OXIDE SINTERED COMPACT
Provided is an oxide sintered compact substantially comprising indium, tin, magnesium, and oxygen, the proportion of tin being such that the atomic ratio Sn/(In+Sn+Mg) is 5–15%, the proportion of magnesium being such that the atomic ratio Mg/(In+Sn+Mg) is 0.1–2.0%, and the remainder comprising indium and oxygen, wherein said oxide sintered compact is characterized by having a transverse rupture strength of at least 140 MPa when the oxide sintered compact has a surface roughness Ra of 0.3–0.5 μm. The present invention addresses the problem of providing an oxide sintered compact for use as a sputtering target capable of reducing target cracking and particle generation during film formation, and capable of forming a thin film exhibiting superior amorphous stability and durability.
L'invention concerne une pastille frittée d'oxyde comprenant essentiellement de l'indium, de l'étain, du magnésium et de l'oxygène, la proportion d'étain étant telle que le rapport atomique Sn/(In+ Sn+Mg) est de 5 à 15 %, la proportion de magnésium étant telle que le rapport atomique Mg/(In+Sn+Mg) est de 0,1 à 2,0 % et le reste comprenant de l'indium et de l'oxygène, ladite pastille frittée d'oxyde étant caractérisée en ce qu'elle présente une résistance à la rupture transversale d'au moins 140 MPa lorsque la pastille frittée d'oxyde présente une rugosité de surface Ra de 0,3 à 0,5 µm. Le problème à la base de la présente invention concerne une pastille frittée d'oxyde destinée à être utilisée en tant que cible de pulvérisation pouvant réduire la fissuration de la cible et la génération de particules pendant la formation du film et pouvant former un film mince présentant une stabilité et une durabilité amorphes supérieures.
実質的にインジウム、スズ、マグネシウム及び酸素からなり、スズがＳｎ／（Ｉｎ＋Ｓｎ＋Ｍｇ）の原子数比で５～１５％の割合、マグネシウムがＭｇ／（Ｉｎ＋Ｓｎ＋Ｍｇ）の原子数比で０．１～２．０％の割合で含有されており、残部がインジウム及び酸素からなる焼結体であって、前記焼結体の表面粗さＲａが０．３～０．５μｍであるときの抗折強度が１４０ＭＰａ以上であることを特徴とする酸化物焼結体。成膜時にターゲット割れやパーティクル発生を低減することができると共に、非晶質安定性や耐久性に優れた薄膜を形成することができるスパッタリングターゲット用酸化物焼結体を提供することを課題とする。
OXIDE SINTERED COMPACT
PASTILLE FRITTÉE D'OXYDE
酸化物焼結体
KAKENO TAKASHI (author) / KAKUTA KOJI (author)
2017-09-21
Patent
Electronic Resource
Japanese
| European Patent Office | 2017
European Patent Office | 2018