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SHOWERHEAD
Provided is a showerhead disposed facing a wafer holding body within a chamber of a semiconductor manufacturing device, wherein the showerhead is equipped with a plate-like ceramic substrate, a plurality of through holes which penetrate the ceramic substrate in the thickness direction, and a plurality of conductor bodies for high-frequency waves which are respectively embedded within a plurality of zones seen from the surface side of the ceramic substrate that faces the wafer holding body.
L'invention concerne une pomme de douche disposée face à un corps de support de plaquette à l'intérieur d'une chambre d'un dispositif de fabrication de semi-conducteur, la pomme de douche étant équipée d'un substrat céramique de type plaque, d'une pluralité de trous traversants qui pénètrent dans le substrat céramique dans la direction de l'épaisseur, et d'une pluralité de corps conducteurs pour des ondes à haute fréquence qui sont incorporés respectivement dans une pluralité de zones vues depuis le côté de surface du substrat céramique qui fait face au corps de support de plaquette.
半導体製造装置のチャンバー内においてウエハ保持体に対向して設けられるシャワーヘッドであって、板状のセラミックス基体と、セラミックス基体を厚み方向に貫通する複数の貫通孔と、セラミックス基体をウエハ保持体に対向する面側から見た複数のゾーン内にそれぞれ埋設された高周波用の複数の導電体とを、備える。
SHOWERHEAD
Provided is a showerhead disposed facing a wafer holding body within a chamber of a semiconductor manufacturing device, wherein the showerhead is equipped with a plate-like ceramic substrate, a plurality of through holes which penetrate the ceramic substrate in the thickness direction, and a plurality of conductor bodies for high-frequency waves which are respectively embedded within a plurality of zones seen from the surface side of the ceramic substrate that faces the wafer holding body.
L'invention concerne une pomme de douche disposée face à un corps de support de plaquette à l'intérieur d'une chambre d'un dispositif de fabrication de semi-conducteur, la pomme de douche étant équipée d'un substrat céramique de type plaque, d'une pluralité de trous traversants qui pénètrent dans le substrat céramique dans la direction de l'épaisseur, et d'une pluralité de corps conducteurs pour des ondes à haute fréquence qui sont incorporés respectivement dans une pluralité de zones vues depuis le côté de surface du substrat céramique qui fait face au corps de support de plaquette.
半導体製造装置のチャンバー内においてウエハ保持体に対向して設けられるシャワーヘッドであって、板状のセラミックス基体と、セラミックス基体を厚み方向に貫通する複数の貫通孔と、セラミックス基体をウエハ保持体に対向する面側から見た複数のゾーン内にそれぞれ埋設された高周波用の複数の導電体とを、備える。
SHOWERHEAD
POMME DE DOUCHE
シャワーヘッド
KIMURA KOICHI (author) / MIKUMO AKIRA (author) / SAKITA SHIGENOBU (author)
2018-10-18
Patent
Electronic Resource
Japanese