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TUNGSTEN SUBOXIDE CERAMIC TARGET
A target for sputtering, use of said target and method of manufacture of said target is provided.The target has a single piece target material for sputter deposition, with at least 1 mm, for example at least 2 mm, such as 4 mm or more of thickness of material for sputtering, having a lamellar structure and comprising a metal oxide with at least 50 wt.%, such as 60 wt. % or 80 wt.% or at least 90 wt.% or even 95% wt.% or more of tungsten oxide. The atomic ratio of oxygen over tungsten results in a compound with oxygen deficiency with respect to the stoichiometric tungsten oxide. The method includes spraying metallic tungsten and/or tungsten oxide powder in amounts so as to provide a layer of material for sputtering being at least 1 mm thick and comprising non-stoichiometric tungsten oxide.
L'invention concerne une cible pour pulvérisation cathodique, l'utilisation de ladite cible et le procédé de fabrication de ladite cible. La cible possède un matériau cible en une seule pièce pour le dépôt par pulvérisation, d'au moins 1 mm, par exemple d'au moins 2 mm, comme 4 mm ou plus d'épaisseur de matériau pour pulvérisation cathodique, ayant une structure lamellaire et comprenant un oxyde métallique ayant au moins 50 % en poids, comme 60 % en poids ou 80 % en poids ou au moins 90 % en poids voire 95 % en poids ou plus d'oxyde de tungstène. Le rapport atomique de l'oxygène par rapport au tungstène donne lieu à un composé ayant une déficience en oxygène par rapport à l'oxyde de tungstène stoechiométrique. Le procédé comprend la pulvérisation de tungstène métallique et/ou de poudre d'oxyde de tungstène en quantités de manière à fournir une couche de matériau pour pulvérisation d'au moins 1 mm d'épaisseur et comprenant de l'oxyde de tungstène non stœchiométrique.
TUNGSTEN SUBOXIDE CERAMIC TARGET
A target for sputtering, use of said target and method of manufacture of said target is provided.The target has a single piece target material for sputter deposition, with at least 1 mm, for example at least 2 mm, such as 4 mm or more of thickness of material for sputtering, having a lamellar structure and comprising a metal oxide with at least 50 wt.%, such as 60 wt. % or 80 wt.% or at least 90 wt.% or even 95% wt.% or more of tungsten oxide. The atomic ratio of oxygen over tungsten results in a compound with oxygen deficiency with respect to the stoichiometric tungsten oxide. The method includes spraying metallic tungsten and/or tungsten oxide powder in amounts so as to provide a layer of material for sputtering being at least 1 mm thick and comprising non-stoichiometric tungsten oxide.
L'invention concerne une cible pour pulvérisation cathodique, l'utilisation de ladite cible et le procédé de fabrication de ladite cible. La cible possède un matériau cible en une seule pièce pour le dépôt par pulvérisation, d'au moins 1 mm, par exemple d'au moins 2 mm, comme 4 mm ou plus d'épaisseur de matériau pour pulvérisation cathodique, ayant une structure lamellaire et comprenant un oxyde métallique ayant au moins 50 % en poids, comme 60 % en poids ou 80 % en poids ou au moins 90 % en poids voire 95 % en poids ou plus d'oxyde de tungstène. Le rapport atomique de l'oxygène par rapport au tungstène donne lieu à un composé ayant une déficience en oxygène par rapport à l'oxyde de tungstène stoechiométrique. Le procédé comprend la pulvérisation de tungstène métallique et/ou de poudre d'oxyde de tungstène en quantités de manière à fournir une couche de matériau pour pulvérisation d'au moins 1 mm d'épaisseur et comprenant de l'oxyde de tungstène non stœchiométrique.
TUNGSTEN SUBOXIDE CERAMIC TARGET
CIBLE CÉRAMIQUE EN SOUS-OXYDE DE TUNGSTÈNE
CARETTI GIANGASPRO IGNACIO (author) / DEBRUYNE DAVID (author) / FACK FREDDY (author) / DE BOSSCHER WILMERT (author)
2022-09-09
Patent
Electronic Resource
English
British Library Online Contents | 2008
|Gallium Suboxide Vapor Attack of Chromium, Cobalt, Molybdenum, Tungsten and Their Alloys at 1200^oC
British Library Conference Proceedings | 2005
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