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ATOMIZED BASE MATERIAL, SLURRY FOR MANUFACTURING ATOMIZED BASE MATERIAL, AND METHOD FOR MANUFACTURING ATOMIZED BASE MATERIAL
An atomized base material, comprising a loose layer and a compact layer, wherein a surface of the loose layer is a seepage surface, a surface of the compact layer is an atomized surface, a plurality of pore structures are formed in the loose layer and the compact layer, the pore diameter of the pore structures in the loose layer is larger than that of the pore structures in the compact layer, the thickness of the loose layer is larger than that of the compact layer, and an atomized liquid permeates the atomized base material from the seepage surface. Further disclosed in the present application are a slurry for manufacturing the atomized base material, and a method for manufacturing the atomized base material.
Matériau de base atomisé, comprenant une couche lâche et une couche compacte, une surface de la couche lâche étant une surface d'infiltration, une surface de la couche compacte étant une surface atomisée, une pluralité de structures de pores étant formées dans la couche lâche et la couche compacte, le diamètre des pores des structures de pores dans la couche lâche étant supérieur à celui des structures de pores dans la couche compacte, l'épaisseur de la couche lâche étant supérieure à celle de la couche compacte, et un liquide atomisé imprégnant le matériau de base atomisé à partir de la surface d'infiltration. Sont en outre divulgués dans la présente demande, une bouillie destinée à la fabrication du matériau de base atomisé, et un procédé de fabrication du matériau de base atomisé.
一种雾化基材,包括疏松层与致密层,所述疏松层表面为渗液面,所述致密层表面为雾化面,所述疏松层与致密层内部形成有若干孔结构,所述疏松层内的孔结构的孔径大于所述致密层内的孔结构的孔径,所述疏松层的厚度大于所述致密层的厚度,雾化液自所述渗液面渗入所述雾化基材内。本申请还包括制造雾化基材的浆料及雾化基材的制造方法。
ATOMIZED BASE MATERIAL, SLURRY FOR MANUFACTURING ATOMIZED BASE MATERIAL, AND METHOD FOR MANUFACTURING ATOMIZED BASE MATERIAL
An atomized base material, comprising a loose layer and a compact layer, wherein a surface of the loose layer is a seepage surface, a surface of the compact layer is an atomized surface, a plurality of pore structures are formed in the loose layer and the compact layer, the pore diameter of the pore structures in the loose layer is larger than that of the pore structures in the compact layer, the thickness of the loose layer is larger than that of the compact layer, and an atomized liquid permeates the atomized base material from the seepage surface. Further disclosed in the present application are a slurry for manufacturing the atomized base material, and a method for manufacturing the atomized base material.
Matériau de base atomisé, comprenant une couche lâche et une couche compacte, une surface de la couche lâche étant une surface d'infiltration, une surface de la couche compacte étant une surface atomisée, une pluralité de structures de pores étant formées dans la couche lâche et la couche compacte, le diamètre des pores des structures de pores dans la couche lâche étant supérieur à celui des structures de pores dans la couche compacte, l'épaisseur de la couche lâche étant supérieure à celle de la couche compacte, et un liquide atomisé imprégnant le matériau de base atomisé à partir de la surface d'infiltration. Sont en outre divulgués dans la présente demande, une bouillie destinée à la fabrication du matériau de base atomisé, et un procédé de fabrication du matériau de base atomisé.
一种雾化基材,包括疏松层与致密层,所述疏松层表面为渗液面,所述致密层表面为雾化面,所述疏松层与致密层内部形成有若干孔结构,所述疏松层内的孔结构的孔径大于所述致密层内的孔结构的孔径,所述疏松层的厚度大于所述致密层的厚度,雾化液自所述渗液面渗入所述雾化基材内。本申请还包括制造雾化基材的浆料及雾化基材的制造方法。
ATOMIZED BASE MATERIAL, SLURRY FOR MANUFACTURING ATOMIZED BASE MATERIAL, AND METHOD FOR MANUFACTURING ATOMIZED BASE MATERIAL
MATÉRIAU DE BASE ATOMISÉ, BOUILLIE DESTINÉE À LA FABRICATION DE MATÉRIAU DE BASE ATOMISÉ, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MATÉRIAU DE BASE ATOMISÉ
雾化基材、制造雾化基材的浆料及雾化基材的制造方法
ZHAN HAILIN (author) / LI YINGYUE (author) / LI CHANGSHUN (author) / LI YAYONG (author)
2023-02-16
Patent
Electronic Resource
Chinese
Development of Gas-Atomized Magnetic Tools
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