A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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VAPOR DEPOSITION SYSTEMS AND METHODS, AND NANOMATERIALS FORMED BY VAPOR DEPOSITION
A vapor deposition system can have a support member, a baffle member, and a deposition substrate. The support member can hold a batch of solid-state precursors. The baffle member can be disposed over and spaced from the support member to define a confined heating volume with at least one exit window. The deposition substrate can be disposed over and spaced from the baffle member. The batch of solid-state precursors can be subjected to a temperature greater than 2200 K, so as to convert at least some of the solid-state precursors into a vapor that exits the confined heating volume via the at least one exit window, flows around the baffle member, and solidifies on the deposition substrate surface. In some embodiments, the baffle member can comprise a heating element. Alternatively or additionally, the vapor deposition system can have a separate heating system.
Un système de dépôt en phase vapeur peut comporter un élément de support, un élément déflecteur et un substrat de dépôt. L'élément de support peut contenir un lot de précurseurs à l'état solide. L'élément déflecteur peut être disposé sur l'élément de support et espacé de celui-ci de sorte à délimiter un volume de chauffage confiné avec au moins une fenêtre de sortie. Le substrat de dépôt peut être disposé sur l'élément déflecteur et espacé de celui-ci. Le lot de précurseurs à l'état solide peut être soumis à une température supérieure à 2 200 K, de façon à convertir au moins certains des précurseurs à l'état solide en une vapeur qui sort du volume de chauffage confiné par l'intermédiaire de la ou des fenêtres de sortie, s'écoule autour de l'élément déflecteur et se solidifie sur la surface du substrat de dépôt. Dans certains modes de réalisation, l'élément déflecteur peut comprendre un élément chauffant. En variante ou en outre, le système de dépôt en phase vapeur peut comporter un système de chauffage séparé.
VAPOR DEPOSITION SYSTEMS AND METHODS, AND NANOMATERIALS FORMED BY VAPOR DEPOSITION
A vapor deposition system can have a support member, a baffle member, and a deposition substrate. The support member can hold a batch of solid-state precursors. The baffle member can be disposed over and spaced from the support member to define a confined heating volume with at least one exit window. The deposition substrate can be disposed over and spaced from the baffle member. The batch of solid-state precursors can be subjected to a temperature greater than 2200 K, so as to convert at least some of the solid-state precursors into a vapor that exits the confined heating volume via the at least one exit window, flows around the baffle member, and solidifies on the deposition substrate surface. In some embodiments, the baffle member can comprise a heating element. Alternatively or additionally, the vapor deposition system can have a separate heating system.
Un système de dépôt en phase vapeur peut comporter un élément de support, un élément déflecteur et un substrat de dépôt. L'élément de support peut contenir un lot de précurseurs à l'état solide. L'élément déflecteur peut être disposé sur l'élément de support et espacé de celui-ci de sorte à délimiter un volume de chauffage confiné avec au moins une fenêtre de sortie. Le substrat de dépôt peut être disposé sur l'élément déflecteur et espacé de celui-ci. Le lot de précurseurs à l'état solide peut être soumis à une température supérieure à 2 200 K, de façon à convertir au moins certains des précurseurs à l'état solide en une vapeur qui sort du volume de chauffage confiné par l'intermédiaire de la ou des fenêtres de sortie, s'écoule autour de l'élément déflecteur et se solidifie sur la surface du substrat de dépôt. Dans certains modes de réalisation, l'élément déflecteur peut comprendre un élément chauffant. En variante ou en outre, le système de dépôt en phase vapeur peut comporter un système de chauffage séparé.
VAPOR DEPOSITION SYSTEMS AND METHODS, AND NANOMATERIALS FORMED BY VAPOR DEPOSITION
SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, ET NANOMATÉRIAUX FORMÉS PAR DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
HU LIANGBING (author) / WANG XIZHENG (author)
2023-08-17
Patent
Electronic Resource
English
Organic Vapor Phase Deposition
| British Library Online Contents | 1998
Thermal Plasma Chemical Vapor Deposition
| British Library Online Contents | 1993
Plasma assisted vapor deposition processes
| British Library Online Contents | 1993