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LANTHANIDE METAL-DOPED IZO TARGET MATERIAL, PREPARATION METHOD THEREFOR, AND APPLICATION THEREOF
A lanthanide metal-doped IZO target material, a preparation method therefor, and an application thereof. The lanthanide metal-doped IZO target material comprises in terms of mass percentage: 0.5%-10% Ln metal oxide, 60%-87% indium oxide, and 5%-15% zinc oxide. The Ln metal is at least one selected from lanthanum, cerium, praseodymium, neodymium, promethium, samarium, europium, gadolinium, terbium, dysprosium, holmium, erbium, thulium, ytterbium and lutetium. The lanthanide metal-doped IZO target material prepared by controlling the proportion of each component in the lanthanide metal-doped IZO target material in combination with chemical coprecipitation has the advantages of high density, uniform color, and not being prone to nodulation during a sputtering process, and has wide application value.
L'invention concerne un matériau de cible en IZO dopé au métal de lanthanide, un procédé de préparation associé et une application correspondante. Le matériau de cible en IZO dopé au métal de lanthanide comprend, en termes de pourcentage en masse : 0,5 % à 10 % d'oxyde de métal de Ln, 60 % à 87 % d'oxyde d'indium et 5 % à 15 % d'oxyde de zinc. Le métal de Ln est au moins un élément choisi parmi le lanthane, le cérium, le praséodyme, le néodyme, le prométhium, le samarium, l'europium, le gadolinium, le terbium, le dysprosium, l'holmium, l'erbium, le thulium, l'ytterbium et le lutétium. Le matériau de cible en IZO dopé au métal de lanthanide préparé par régulation de la proportion de chaque constituant dans le matériau de cible en IZO dopé au métal de lanthanide en combinaison avec une coprécipitation chimique présente les avantages d'une densité élevée, d'une couleur uniforme et de ne pas être sujet à la nodulation pendant un procédé de pulvérisation et présente une large valeur d'application.
一种镧系金属掺杂IZO靶材及其制备方法与应用。镧系金属掺杂IZO靶材按照质量百分比计包括：Ln系金属氧化物0.5％～10％、氧化铟60％～87％和氧化锌5％～15％，所述Ln系金属选自镧、铈、镨、钕、钷、钐、铕、钆、铽、镝、钬、铒、铥、镱、镥中的至少一种。通过控制镧系金属掺杂IZO靶材中各成分的占比并结合化学共沉淀所制得的镧系金属掺杂IZO靶材具有致密性高、颜色均匀且溅射过程不易结瘤等优点，具有广泛的应用价值。
LANTHANIDE METAL-DOPED IZO TARGET MATERIAL, PREPARATION METHOD THEREFOR, AND APPLICATION THEREOF
A lanthanide metal-doped IZO target material, a preparation method therefor, and an application thereof. The lanthanide metal-doped IZO target material comprises in terms of mass percentage: 0.5%-10% Ln metal oxide, 60%-87% indium oxide, and 5%-15% zinc oxide. The Ln metal is at least one selected from lanthanum, cerium, praseodymium, neodymium, promethium, samarium, europium, gadolinium, terbium, dysprosium, holmium, erbium, thulium, ytterbium and lutetium. The lanthanide metal-doped IZO target material prepared by controlling the proportion of each component in the lanthanide metal-doped IZO target material in combination with chemical coprecipitation has the advantages of high density, uniform color, and not being prone to nodulation during a sputtering process, and has wide application value.
L'invention concerne un matériau de cible en IZO dopé au métal de lanthanide, un procédé de préparation associé et une application correspondante. Le matériau de cible en IZO dopé au métal de lanthanide comprend, en termes de pourcentage en masse : 0,5 % à 10 % d'oxyde de métal de Ln, 60 % à 87 % d'oxyde d'indium et 5 % à 15 % d'oxyde de zinc. Le métal de Ln est au moins un élément choisi parmi le lanthane, le cérium, le praséodyme, le néodyme, le prométhium, le samarium, l'europium, le gadolinium, le terbium, le dysprosium, l'holmium, l'erbium, le thulium, l'ytterbium et le lutétium. Le matériau de cible en IZO dopé au métal de lanthanide préparé par régulation de la proportion de chaque constituant dans le matériau de cible en IZO dopé au métal de lanthanide en combinaison avec une coprécipitation chimique présente les avantages d'une densité élevée, d'une couleur uniforme et de ne pas être sujet à la nodulation pendant un procédé de pulvérisation et présente une large valeur d'application.
一种镧系金属掺杂IZO靶材及其制备方法与应用。镧系金属掺杂IZO靶材按照质量百分比计包括：Ln系金属氧化物0.5％～10％、氧化铟60％～87％和氧化锌5％～15％，所述Ln系金属选自镧、铈、镨、钕、钷、钐、铕、钆、铽、镝、钬、铒、铥、镱、镥中的至少一种。通过控制镧系金属掺杂IZO靶材中各成分的占比并结合化学共沉淀所制得的镧系金属掺杂IZO靶材具有致密性高、颜色均匀且溅射过程不易结瘤等优点，具有广泛的应用价值。
LANTHANIDE METAL-DOPED IZO TARGET MATERIAL, PREPARATION METHOD THEREFOR, AND APPLICATION THEREOF
MATÉRIAU DE CIBLE EN IZO DOPÉ AU MÉTAL DE LANTHANIDE, PROCÉDÉ DE PRÉPARATION ASSOCIÉ ET APPLICATION CORRESPONDANTE
一种镧系金属掺杂IZO靶材及其制备方法与应用
CHEN MINGFEI (author) / LIU YONGCHENG (author) / GUO ZIXUAN (author) / WANG JINKE (author) / XU SHENGLI (author) / CHEN MINGGAO (author) / MO GUOREN (author) / JIANG CHANGJIU (author) / WANG ZHIJIE (author) / LI YUEHUI (author)
2024-03-14
Patent
Electronic Resource
Chinese
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