Kolloidchemische und grenzflächenphysikalische Aspekte bei der Entwicklung von Kupfer‐CMP‐Slurries: Fid-Bau Portal

Kolloidchemische und grenzflächenphysikalische Aspekte bei der Entwicklung von Kupfer‐CMP‐Slurries

Nennemann, A. / Krüger, L. / Puppe, L. / Passing, G. / Hey, G. / Kirchmeyer, S.

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Title:

Kolloidchemische und grenzflächenphysikalische Aspekte bei der Entwicklung von Kupfer‐CMP‐Slurries

Contributors:

Nennemann, A. (author) / Krüger, L. (author) / Puppe, L. (author) / Passing, G. (author) / Hey, G. (author) / Kirchmeyer, S. (author)

Published in:

Chemie Ingenieur Technik ; 77 ; 137-142

Publication date:

2005-02-01

Size:

6 pages

ISSN:

0009-286X , 1522-2640

DOI:

https://doi.org/10.1002/cite.200407064

Type of media:

Article (Journal)

Type of material:

Electronic Resource

Language:

English

Keywords:

Polieren , Wafer , Additive , Dispersionen

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