Kolloidchemische und grenzflächenphysikalische Aspekte bei der Entwicklung von Kupfer‐CMP‐Slurries: Fid-Bau Portal

Kolloidchemische und grenzflächenphysikalische Aspekte bei der Entwicklung von Kupfer‐CMP‐Slurries

Nennemann, A. / Krüger, L. / Puppe, L. / Passing, G. / Hey, G. / Kirchmeyer, S.

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Titel:

Kolloidchemische und grenzflächenphysikalische Aspekte bei der Entwicklung von Kupfer‐CMP‐Slurries

Beteiligte:

Nennemann, A. (Autor:in) / Krüger, L. (Autor:in) / Puppe, L. (Autor:in) / Passing, G. (Autor:in) / Hey, G. (Autor:in) / Kirchmeyer, S. (Autor:in)

Erschienen in:

Chemie Ingenieur Technik ; 77 ; 137-142

Erscheinungsdatum:

01.02.2005

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0009-286X , 1522-2640

DOI:

https://doi.org/10.1002/cite.200407064

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Elektronische Ressource

Sprache:

Englisch

Schlagwörter:

Polieren , Wafer , Additive , Dispersionen

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