In situ spectroscopic ellipsometry studies of electron cyclotron resonance (ECR) plasma etching of oxides of silicon and GaAs: Fid-Bau Portal

In situ spectroscopic ellipsometry studies of electron cyclotron resonance (ECR) plasma etching of oxides of silicon and GaAs

Ianno, N. J. / Nafis, S. / Snyder, P. G. / Johs, B.

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Titel:

In situ spectroscopic ellipsometry studies of electron cyclotron resonance (ECR) plasma etching of oxides of silicon and GaAs

Beteiligte:

Ianno, N. J. (Autor:in) / Nafis, S. (Autor:in) / Snyder, P. G. (Autor:in) / Johs, B. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 63 ; 17

Erscheinungsdatum:

01.01.1993

Format / Umfang:

17 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 621.35

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