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    Titel:

    Oxidation of tantalum silicide thin films in an RF oxygen plasma

    Beteiligte:

    Gomez-San Roman, R. (Autor:in) / Perez-Casero, R. (Autor:in) / Perriere, J. (Autor:in) / Enard, J. P. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 70/71 ; 479

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1993

    Format / Umfang:

    479 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Unbekannt

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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