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Plasma enhanced chemical vapour deposition of tungsten and tungsten silicide thin films

McClatchie, S. / Thomas, H. / Morgan, D. V.

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Titel:

Plasma enhanced chemical vapour deposition of tungsten and tungsten silicide thin films

Beteiligte:

McClatchie, S. (Autor:in) / Thomas, H. (Autor:in) / Morgan, D. V. (Autor:in) / Janssen, G. C. A. M. / Jongste, J. F. / Radelaar, S.

Erschienen in:

Proceedings of the Fifth European Workshop on Refractory Metals and Silicides ; 58

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 72

Erscheinungsdatum:

01.01.1993

Format / Umfang:

58 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 621.35

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