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    Titel:

    Selectivity in low pressure chemical vapor deposition of copper from hexafluoroacetylacetonate-copper(I)-trimethylvinyl-silane in the presence of water

    Beteiligte:

    Stumm, T. H. (Autor:in) / Van den Bergh, H. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 23 ; 48

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1994

    Format / Umfang:

    48 pages

    ISSN:

    0921-5107

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Unbekannt

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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