Alkane Plasma Etching of Gallium Arsenide: Fid-Bau Portal

Alkane Plasma Etching of Gallium Arsenide

Law, V. J. / Tewordt, M. / Ingram, S. G. / Jones, G. A. C.

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Titel:

Alkane Plasma Etching of Gallium Arsenide

Beteiligte:

Law, V. J. (Autor:in) / Tewordt, M. (Autor:in) / Ingram, S. G. (Autor:in) / Jones, G. A. C. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 659

Erscheinungsdatum:

01.01.1993

Format / Umfang:

659 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 620.11

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