Effects of excimer-laser annealing on low-temperature-deposited silicon-nitride film: Fid-Bau Portal

Effects of excimer-laser annealing on low-temperature-deposited silicon-nitride film

Uchida, Y. / Shimizu, K. / Matsumura, M.

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Titel:

Effects of excimer-laser annealing on low-temperature-deposited silicon-nitride film

Beteiligte:

Uchida, Y. (Autor:in) / Shimizu, K. (Autor:in) / Matsumura, M. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 79/80 ; 350

Erscheinungsdatum:

01.01.1994

Format / Umfang:

350 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 621.35

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