Metal-organic chemical vapor deposition of ZrO~2 films using Zr(thd)~4 as precursors: Fid-Bau Portal

Metal-organic chemical vapor deposition of ZrO~2 films using Zr(thd)~4 as precursors

Si, J. / Desu, S. B. / Tsai, C.-Y.

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Titel:

Metal-organic chemical vapor deposition of ZrO~2 films using Zr(thd)~4 as precursors

Beteiligte:

Si, J. (Autor:in) / Desu, S. B. (Autor:in) / Tsai, C.-Y. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH- ; 9 ; 1721

Erscheinungsdatum:

01.01.1994

Format / Umfang:

1721 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 620.11

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