X-ray diffraction studies and ellipsometric diagnostic of thin �-Ti growth films in plasma activated physical vapour deposition: Fid-Bau Portal

X-ray diffraction studies and ellipsometric diagnostic of thin -Ti growth films in plasma activated physical vapour deposition

Wulff, H. / Steffen, H. / Krasemann, V. / Klimke, J.

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Titel:

X-ray diffraction studies and ellipsometric diagnostic of thin -Ti growth films in plasma activated physical vapour deposition

Beteiligte:

Wulff, H. (Autor:in) / Steffen, H. (Autor:in) / Krasemann, V. (Autor:in) / Klimke, J. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 313

Erscheinungsdatum:

01.01.1994

Format / Umfang:

313 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 620.11

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