Selective low pressure chemical vapour deposition epitaxy using silane only for advanced device applications: Fid-Bau Portal

Selective low pressure chemical vapour deposition epitaxy using silane only for advanced device applications

Bonar, J. M. / Parker, G. J.

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Titel:

Selective low pressure chemical vapour deposition epitaxy using silane only for advanced device applications

Beteiligte:

Bonar, J. M. (Autor:in) / Parker, G. J. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND TECHNOLOGY -LONDON- ; 11 ; 31

Erscheinungsdatum:

01.01.1995

Format / Umfang:

31 pages

ISSN:

0267-0836

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 620.11

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