Microstructure of thin films prepared by plasma-enhanced chemical vapour deposition of helium-diluted silane: Fid-Bau Portal

Microstructure of thin films prepared by plasma-enhanced chemical vapour deposition of helium-diluted silane

Carabe, J. / Ganda, J.J. / Gonzalez, N. / Rodrguez, A. / Gutierrez, M.T.

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Titel:

Microstructure of thin films prepared by plasma-enhanced chemical vapour deposition of helium-diluted silane

Beteiligte:

Carabe, J. (Autor:in) / Ganda, J.J. (Autor:in) / Gonzalez, N. (Autor:in) / Rodrguez, A. (Autor:in) / Gutierrez, M.T. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 143 ; 11-15

Erscheinungsdatum:

01.01.1999

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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