Study of post-deposited contamination in low-temperature deposited polysilicon films: Fid-Bau Portal

Study of post-deposited contamination in low-temperature deposited polysilicon films

Bertomeu, J. / Puigdollers, J. / Peiro, D. / Cifre, J. / Delgado, J. C. / Andreu, J.

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Titel:

Study of post-deposited contamination in low-temperature deposited polysilicon films

Beteiligte:

Bertomeu, J. (Autor:in) / Puigdollers, J. (Autor:in) / Peiro, D. (Autor:in) / Cifre, J. (Autor:in) / Delgado, J. C. (Autor:in) / Andreu, J. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 36 ; 96-99

Erscheinungsdatum:

01.01.1996

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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