An X-ray photoelectron spectroscopic investigation into the chemical structure of deposits formed from hexamethyldisiloxane/oxygen plasmas: Fid-Bau Portal

An X-ray photoelectron spectroscopic investigation into the chemical structure of deposits formed from hexamethyldisiloxane/oxygen plasmas

Alexander, M. R. / Short, R. D. / Jones, F. R. / Stollenwerk, M. / Zabold, J. / Michaeli, W.

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Titel:

An X-ray photoelectron spectroscopic investigation into the chemical structure of deposits formed from hexamethyldisiloxane/oxygen plasmas

Beteiligte:

Alexander, M. R. (Autor:in) / Short, R. D. (Autor:in) / Jones, F. R. (Autor:in) / Stollenwerk, M. (Autor:in) / Zabold, J. (Autor:in) / Michaeli, W. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 31 ; 1879-1885

Erscheinungsdatum:

01.01.1996

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0022-2461

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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