Silicide formation by solid-state diffusion in MO/Si multilayer thin films: Fid-Bau Portal

Silicide formation by solid-state diffusion in MO/Si multilayer thin films

Chi, E. / Shim, J. / Kwak, J. / Balk, H.

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Titel:

Silicide formation by solid-state diffusion in MO/Si multilayer thin films

Beteiligte:

Chi, E. (Autor:in) / Shim, J. (Autor:in) / Kwak, J. (Autor:in) / Balk, H. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 31 ; 3567-3572

Erscheinungsdatum:

01.01.1996

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0022-2461

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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