Optical and electrical characterization of high quality �-FeSi~2 thin films grown by solid phase epitaxy: Fid-Bau Portal

Optical and electrical characterization of high quality -FeSi~2 thin films grown by solid phase epitaxy

Tassis, D. H. / Mitsas, C. L. / Zorba, T. T. / Angelakeris, M. / Dimitriadis, C. A. / Valassiades, O. / Siapkas, D. I. / Kiriakidis, G.

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Titel:

Optical and electrical characterization of high quality -FeSi~2 thin films grown by solid phase epitaxy

Beteiligte:

Tassis, D. H. (Autor:in) / Mitsas, C. L. (Autor:in) / Zorba, T. T. (Autor:in) / Angelakeris, M. (Autor:in) / Dimitriadis, C. A. (Autor:in) / Valassiades, O. (Autor:in) / Siapkas, D. I. (Autor:in) / Kiriakidis, G. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 102 ; 178-183

Erscheinungsdatum:

01.01.1996

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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